[发明专利]光刻设备和部件

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

衬底台，构造用以保持衬底；和

投影系统，配置成将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；

其中在使用中在真空环境中的光刻设备的部件的表面设置有重复结构，所述重复结构配置成增加所述表面的有效热适应系数。

2.一种光刻设备部件，具有设置有结构的表面，所述结构满足下式：

f2.041+0.47·R-1.96>0.05]]>

其中f是由空间占据的所述结构的分数，R是由所述结构的深度除以所述结构的宽度。

3.根据权利要求所述的光刻设备部件，其中所述结构具有超过0.2的纵横比。

4.根据权利要求2或3所述的光刻设备部件，其中所述结构是重复结构。

5.根据权利要求2或3所述的光刻设备部件，其中所述结构是非重复结构，其中f和R是所述结构的平均值。

6.一种光刻设备部件，具有设置有结构的表面，所述表面对于氢气具有为0.4或更大的有效热适应系数。

7.根据权利要求6所述的光刻设备部件，其中所述结构是重复结构。

8.一种光刻设备部件，具有一表面，所述表面的每单位的突出的两维面积的表面积大于所述部件的常规表面的每单位的突出的两维面积的表面积。

9.根据权利要求8所述的光刻设备部件，其中所述表面设置有重复结构。

10.根据权利要求4、7或9所述的光刻设备部件，其中所述重复结构包括一系列的脊。

11.根据权利要求4、7或9所述的光刻设备部件，其中所述重复结构包括设置在所述部件的表面中的孔的阵列。

12.根据权利要求11所述的光刻设备部件，其中所述孔的阵列包括蜂窝布置或圆形孔的阵列。

13.根据权利要求4、7或9所述的光刻设备部件，其中所述重复结构具有恒定的节距。

14.一种光刻设备部件，具有设置有结构的表面，所述结构具有小于气体的平均自由程的节距，所述气体在光刻设备的操作期间将处于所述结构的附近区域中。

15.根据权利要求2-14中任一项所述的光刻设备部件，其中所述光刻设备部件是投影系统壁、衬底台、反射镜、散热器或内腔壁。

16.根据权利要求1所述的光刻设备，其中光刻设备的所述部件是根据权利要求2、3、6、8、10-15中任一项所述的光刻设备部件。