[发明专利]用于溅射的分离靶装置及使用其的溅射方法

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2011年5月23日提交的第10-2011-0048505号韩国专利申请的优先权和权益，为了充分阐述目的，其内容通过引用并入本文中。

技术领域

本发明的示例性实施方式涉及一种在溅射操作中用作沉积源的分离靶装置，并且涉及一种使用该分离靶装置的溅射方法。

背景技术

通常，通过沉积处理（例如磁控溅射）来制作用于显示装置的薄膜晶体管（TFT）。也就是说，在沉积靶上进行溅射，以使得在显示装置的衬底上形成具有期望图案的薄膜，其中，该衬底是沉积靶对象。

但是，随显示装置屏幕尺寸的增加，为了使沉积靶具有与屏幕相同的尺寸，很难制作沉积靶。也就是说，TFT完全形成在显示装置的屏幕上，就此而言，为了使沉积靶具有与屏幕几乎相同的尺寸，在制作和处理沉积靶时，导致相当大的负担。并且，当其有源层由氧化物形成的TFT的使用增加时，在溅射期间，会更频繁地使用氧化物靶材。但是，氧化物是易碎的，因此当氧化物较大时，难以制作和处理该氧化物。

最近，鉴于这些问题，可以使用分离靶装置，并且在分离靶装置中，沉积靶可以由易于制作和处理的多个较小的分离靶来形成，然后沉积靶可附着于底板。然后，在溅射期间，当分离靶装置的靶组件沿屏幕移动时，分离靶装置进行沉积操作。也就是说，沉积靶没有形成为具有能够完全覆盖屏幕的尺寸，而是通过连接多个较小的分离靶而形成，连接后的小分离靶的尺寸仅覆盖屏幕的一部分。然后，在溅射期间，当分离靶装置的沉积靶沿屏幕移动时，分离靶装置进行沉积操作。

但是，因为沉积靶可以由多个较小的分离靶形成，因此，会增加与小分离靶之间的间隙相对应的区域和与每个分离靶的内部相对应的区域之间的质量偏差。也就是说，因为每个分离靶的端部角位于与小分离靶之间的间隙相对应的区域附近，所以该间隙中的电压值和磁场值大于该内部中的电压值和磁场值，从而沉积质量会变得不规则。

因为上述问题，作为最终产品的显示装置的屏幕上的亮度可能是不均匀的，并且亮度偏差的水平会与屏幕的尺寸成比例增加。

因此，需要一种能够解决这些问题的方案。

在背景技术部分所公开的上述信息，仅仅是为了加强对本发明背景的理解，因此，其可能包括没有成为现有技术的信息、或者对于本领域的技术人员而言现有技术没有教导的信息。

发明内容

本发明的示例性实施方式提供了一种用于溅射的分离靶装置，其使用了分离靶，且可以阻止导致亮度偏差的屏幕的部分中的沉积质量偏差。

在随后的说明书中将描述本发明的其他特征，部分地在说明书中是显而易见的，或者可以从本发明的实践中推导出来。

本发明的示例性实施方式公开了一种用于溅射的分离靶装置。该分离靶装置包括底板以及多个源单元。多个源单元包括多个分离靶和多个磁体，所述多个分离靶附着在所述底板的一侧上并形成规则排列，所述多个磁体附着在所述底板的另一侧上且分别与所述多个分离靶成对。所述多个源单元以作为规则排列方向的第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向之间的角度沿并联排列。

本发明的示例性实施方式还公开了一种溅射方法，包括：设置包括多个源单元的分离靶装置，所述多个源单元包括多个分离靶和多个磁体，所述多个分离靶以第一方向设置在底板的一侧上，所述多个磁体设置在所述底板的另一侧上并且分别与所述多个分离靶成对，其中所述多个源单元以所述第一方向和垂直于所述第一方向的第二方向之间的角度沿直线排列；设置衬底，以面向所述分离靶装置，所述衬底是溅射靶目标；以及当在所述第二方向上在所述衬底之上移动所述分离靶装置时，进行溅射。

应当理解，以上概述和以下详述都是示例性和解释性的，不用于对所主张的发明作进一步的限定。

附图简要说明

为了对本发明进一步理解所提供的且并入和构成本发明一部分的附图，示出了本发明的实施方式，并且与说明书一起用来说明本发明的原理。

图1是根据本发明的示例性实施方式的分离靶装置的平面图。

图2是设置图1的分离靶装置的真空腔的示图。

图3是放大了图1的分离靶装置的一部分的平面图。

图4是示出图1的分离靶装置的溅射曲线的示图。

图5是根据本发明的另一示例性实施方式的分离靶装置的平面图。

具体实施方式