[发明专利]蒸镀装置以及蒸镀机台

说明书

技术领域

本发明涉及一种制作工艺设备，且特别是涉及一种适用于蒸镀制作工艺的镀膜设备。

背景技术

镀膜技术大致可分为物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)以及化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,CVD)。前者主要是通过物理现象进行薄膜沉积，而后者主要是以化学反应的方式进行薄膜沉积。其中，物理气相沉积更以蒸镀(evaporation)及溅镀(sputtering)为目前的主流。此两种技术的共同点就是以物理现象的方式来进行薄膜沉积。就蒸镀而言，其原理大抵是借着对被蒸镀物体进行加热，并利用被蒸镀物在高温(接近其熔点)时所具备的饱和蒸气压，来进行薄膜的沉积。

蒸镀技术的应用广泛，如作为显示元件主流之一的有机电激发光元件便可采用蒸镀技术来制作有机化合物层。然而，现行蒸镀技术仍然存在难以制作大面积元件、材料容易因高温劣化、蒸镀膜厚不均、材料利用率低等问题。

图1所示即为现有的一种蒸镀机台，其中坩锅102盛装镀膜材料，坩锅102下方有加热器114对镀膜材料加热。被蒸发的镀膜材料会经由传输通道104而由喷嘴106喷出，而被镀制于待镀物上。然而，现有此种蒸镀机台需全程对镀膜材料进行加热，使得镀膜材料在坩锅102中维持高温状态，以持续在待镀物上沉积薄膜。因此，镀膜材料容易因为长时间处在高温状态下而劣化，且镀膜材料的组成成分可能改变而影响制作工艺良率。此外，镀膜材料由喷嘴106喷出时具有扩散角，容易导致镀膜不均的问题，也相对降低材料利用率。再者，镀膜材料盛放在坩锅102中，当镀膜材料耗尽时，需中断制作工艺后再行添加镀膜材料，不仅较为不便，且限制了生产效率的提升。

发明内容

为解决上述问题，本发明提出一种蒸镀装置，适于对一待镀物进行蒸镀。所述蒸镀装置包括一载带载具以及一遮罩。载带载具具有一加热区。待镀物位于加热区上方并且适于依一进给方向移动。载带载具适于承载一镀膜材料通过加热区，并且在加热区内加热镀膜材料，使镀膜材料蒸发。遮罩设置于加热区外围，且遮罩具有一开口位于加热区与待镀物之间。被蒸发的镀膜材料适于通过开口而被镀制于待镀物上。

在一实施例中，所述载带载具包括一加热轴杆以及一载带(carrier tape)。加热轴杆适于依一轴向转动。待镀物位于加热轴杆的一侧。载带承靠加热轴杆的该侧，且载带适于依加热轴杆绕行。此外，载带具有相对远离加热轴杆的一承载面，用于承载镀膜材料通过加热区，以通过加热轴杆来加热镀膜材料。

在一实施例中，所述蒸镀装置还可包括一辅助轴杆。加热轴杆与辅助轴杆实质上相互平行并且分别承靠载带。载带为一封闭式载带，绕行于加热轴杆与辅助轴杆之间。

在一实施例中，所述蒸镀装置还可包括一材料槽，用以盛装液态的镀膜材料。承靠于辅助轴杆的部分载带适于浸入液态的镀膜材料中，以将液态的镀膜材料沾附于载带的承载面上。

在一实施例中，所述载带为一连续的可挠带状物。此外，所述加热轴杆具有垂直于轴向的一截面，且截面例如是一圆形。

在一实施例中，所述载带为由多个片状物相互枢接而成的一履带，且相邻两片状物之间的一枢轴实质上平行于轴向。此外，所述加热轴杆具有垂直于轴向的一截面，且截面例如是一正多边形。此正多边形的边长实质上等于各片状物的宽度。

在一实施例中，所述载带载具包括一加热轴杆，适于依一轴向转动，且加热轴杆具有一表面，用于承载镀膜材料通过加热区，以加热镀膜材料。

在一实施例中，所述蒸镀装置还可包括一材料槽，用以盛装液态的镀膜材料。部分加热轴杆适于浸入液态的镀膜材料中，以使液态的镀膜材料沾附于加热轴杆的表面上。

在一实施例中，所述开口例如是一开槽。此开槽依着轴向由载带载具的一端延伸至载带载具的另一端。

在一实施例中，所述遮罩包括两板件，对称设置于加热区的相对两侧，且所述两板件在加热区上方保持一间隔，以形成开口。此外，各板件垂直于轴向的一截面例如是C形或L形。

在一实施例中，所述遮罩包括一冷却单元。此冷却单元例如是贯穿遮罩的多个孔道。该些孔道可实质上平行于轴向。此外，孔道内可通入冷却介质，如空气、水或冷媒等，以提升冷却效果。

在一实施例中，待镀物的移动方向实质上垂直于轴向。

本发明更提出一种蒸镀机台，包括多个前述的蒸镀装置。所述多个蒸镀装置并排设置，用以对一待镀物进行蒸镀，而在待镀物上形成相互堆叠的多个镀层。