[发明专利]一种H-ZSM-5沸石分子筛及其制备和应用

权利要求书

1.一种H-ZSM-5沸石分子筛，其特征是，所述H-ZSM-5沸石分子筛是分散独立棒状单晶体，长度为300~1000nm，结构硅铝摩尔比为300~400，其表面上有一层化学键合的纯二氧化硅层。

2.根据权利要求2所述的H-ZSM-5沸石分子筛，其特征是，所述纯二氧化硅层的质量为总质量的1/1000~1/50，优选1/500~1/100，更优选1/300~1/100，最优选1/150~1/100。

3.一种权利要求1或2所述的H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，其特征是包括如下步骤：

（1）以正硅酸乙酯或气相法白炭黑为硅源，与四丙基氢氧化铵溶液混合制成碱性二氧化硅前驱体；

（2）由上述所得碱性二氧化硅前驱体对H-ZSM-5沸石分子筛进行表面浸渍，所述的H-ZSM-5沸石分子筛是分散独立棒状单晶体、长度300~1000 nm、结构硅铝摩尔比为300~400；

（3）对上述所得表面浸渍了碱性二氧化硅前驱体的H-ZSM-5单晶体沸石分子筛进行水热法气/固相反应，再经焙烧得到表面纯二氧化硅化的H-ZSM-5沸石分子筛。

4.根据权利要求3所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，其特征是步骤（1）中，所述正硅酸乙酯或气相白炭黑硅源中的SiO₂与四丙基氢氧化铵的摩尔比为(30~10)∶1，优选(25~15)∶1。

5.根据权利要求4所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，所述正硅酸乙酯或气相白炭黑硅源中的SiO₂与四丙基氢氧化铵的摩尔比为20∶1。

6.根据权利要求3所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，其特征是步骤（2）中，以两种原料的干基SiO₂计算，所述H-ZSM-5沸石分子筛与碱性二氧化硅前驱体的质量比为1000~25∶1，优选(300~50)∶1。

7.根据权利要求6所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，所述H-ZSM-5沸石分子筛与碱性二氧化硅前驱体的质量比为100∶1。

8.根据权利要求3所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，其特征是步骤（3）中，所述水热法气/固相反应的反应温度为110~200℃，优选140~180℃，最优选160℃，反应时间为0.5~5h。

9.根据权利要求3所述H-ZSM-5沸石分子筛的制备方法，其特征是步骤（3）中，所述焙烧是在含氧的气态气氛中进行，焙烧温度为500~600℃，焙烧时间为1~5 h。

10.一种制备己内酰胺的方法，其中在有权利要求1或2的H-ZSM-5沸石分子筛存在下，通过环己酮肟气相贝克曼重排反应制备己内酰胺。