[发明专利]涡流检测探头

说明书

技术领域

本发明涉及无损检测领域，尤其涉及一种用于检测材质为40Cr的回转支承淬透层深度的涡流检测探头。

背景技术

现有通用涡流检测探头很容易检测出管材、线材等诸多材料，但对材质为40Cr的回转支承淬火层金属组织不敏感，很难识别出淬火层金属材料，造成漏检，影响材料的相关产品的质量。因此，涡流检测探头急需得到改进。

发明内容

本发明的目的是提供一种能识别材质为40Cr的回转支承淬火层金属组织的检测探头，克服现有技术中涡流检测探头对材质为40Cr的回转支承表面淬火层识别不敏感、容易漏检的技术问题。

实现上述目的的技术方案是：一种涡流检测探头，包括绕组单元和封装绕组单元的外壳；所述绕组单元包括磁芯，绕在磁芯上的检测线圈和绕在检测线圈上的激励线圈；所述外壳的上部设有通孔，所述外壳的下部设有空腔；所述绕组单元被封装在外壳下部的空腔内；所述激励线圈由直径为0.14~0.16mm的漆包铜线绕制445~450匝形成；检测线圈由直径为0.05~0.07mm的漆包铜线绕制 1400~1500匝形成。

进一步的，所述外壳的下端还固定联接一个可以避免提离效应的卡槽，所述卡槽的A面为一斜面。

优选的，所述卡槽的A面与探头外壳的B面呈105°的α夹角。

优选的，所述激励线圈由直径为0.15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1500匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.16mm的漆包铜线绕制445匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1450匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1450匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1500匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.05mm的漆包铜线绕制 1500匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.16mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1400匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1400匝形成。

优选的，所述激励线圈由直径为0.15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1450匝形成。

采用本发明后，材质为40Cr的回转支承齿顶面3-5mm的淬火层组织均能比较准确的检测到；卡槽不仅可以避免提离效应，且可以适合不同齿深的回转支承的检测。

附图说明

图1为本发明的结构示意图。

图中：1.卡槽；2.绕组单元；3.外壳；4.通孔；5.空腔。

图2为激励线圈、检测线圈和磁芯的局部放大图。

图中：2-1.磁芯；2-2.检测线圈；2-3.激励线圈。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步详细的说明。

如图1~2所示，一种涡流检测探头，包括绕组单元2和封装绕组单元的外壳3；所述绕组单元2包括磁芯2-1，绕在磁芯2-1上的检测线圈2-2和绕在检测线圈2-2上的激励线圈2-3；所述外壳3的上部设有通孔4，检测线圈2-2和激励线圈2-3从所述通孔4中引出漆包铜线的线头；所述外壳3的下部设有空腔5；所述绕组单元2被封装在所述空腔5内；所述激励线圈2-3由直径为0.14~0.16mm的漆包铜线绕制445~450匝形成；检测线圈2-2由直径为0.05~0.07mm的漆包铜线绕制 1400~1500匝形成。

进一步的，所述外壳3的下端还固定联接一个可以避免提离效应的卡槽1，所述卡槽1的A面为一斜面，在检测过程中所述A面与被检测的回转支承的齿背较为紧密贴合，由于A面为一斜面，可适合各种不同齿槽宽度的回转支承检测。齿槽宽度越宽，卡槽的A面与齿背贴合范围越大。

优选的，所述卡槽1的A面与探头外壳3的B面呈105°的α夹角。

优选的，所述激励线圈2-3由直径为0.15mm的漆包铜线绕制450匝形成；检测线圈2-2由直径为0.06mm的漆包铜线绕制 1500匝形成。