[发明专利]3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化方法有效
申请号: | 201210125773.3 | 申请日: | 2012-04-25 |
公开(公告)号: | CN102663204A | 公开(公告)日: | 2012-09-12 |
发明(设计)人: | 侯立刚;汪金辉;白澍;彭晓宏;耿淑琴 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 魏聿珠 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 集成电路 自动 布局 tsv 位置 距离 优化 方法 | ||
1.3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化法,其特征在于:将电路中间距小于工艺加工间距的TSV弹开,称这种方法为弹开法;逐个整理所有间距小于工艺加工间距的TSV,使他们的间距满足工艺加工间距约束;
具体步骤如下:
S1,建立3D集成电路版图直角坐标系:TSV初步定位的3D集成电路版图中建立直角坐标系A,坐标系A沿版图的边缘建立,其横轴沿版图的水平方向建立,纵轴沿版图的垂直方向建立;
S2,建立间距小于工艺加工间距的TSV对集合B:分别计算每个TSV在坐标系中的坐标,得到每个TSV在版图中的坐标点;利用平面直角坐标系的距离计算公式计算每个TSV的坐标与其他所有TSV的坐标做距离计算,求得任意两两TSV的距离;计算出所有TSV之间的距离后,建立两两间距小于工艺加工间距的TSV对的集合B;然后把间距小于工艺加工间距的TSV对放入集合B,其中所述TSV对包含两个TSV的坐标;计算集合B中TSV对的数目,
S3:当集合B中TSV对的数目等于0时,表明无需再进行优化,跳出优化过程;当集合B中TSV对的数目大于0时执行S4,
S4,弹开处理间距小于工艺加工间距的TSV对:选取集合B的TSV对中出现次数最多的TSV为基点;以基点作为圆心,以工艺加工间距为半径画圆,将落在此圆中的所有TSV沿着圆的径向移到该圆的圆周上;
循环执行S2、S3、S4,直至集合B中TSV对数目为零,跳出优化过程。
2.3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化装置,其特征在于:其包括有:
输入单元:用于建立3D集成电路版图直角坐标系:TSV初步定位的3D集成电路版图中建立直角坐标系A,坐标系A沿版图的边缘建立,其横轴沿版图的水平方向建立,纵轴沿版图的垂直方向建立;
TSV对存放单元:用于建立间距小于工艺加工间距的TSV对集合B:分别计算每个TSV在坐标系中的坐标,得到每个TSV在版图中的坐标点;利用平面直角坐标系的距离计算公式计算每个TSV的坐标与其他所有TSV的坐标做距离计算,求得任意两两TSV的距离;计算出所有TSV之间的距离后,建立两两间距小于工艺加工间距的TSV对的集合B;然后把间距小于工艺加工间距的TSV对放入集合B,其中所述TSV对包含两个TSV的坐标;
判断单元:用于判断TSV中TSV对的个数当集合B中TSV对的数目大于0时执行优化,当集合B中TSV对的数目等于0时,表明无需再进行优化;
弹开单元:用于弹开处理间距小于工艺加工间距的TSV对:选取集合B的TSV对中出现次数最多的TSV为基点;以基点作为圆心,以工艺加工间距为半径画圆,将落在此圆中的所有TSV沿着圆的径向移到该圆的圆周上。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210125773.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:全自动卷绕机竖向贴胶装置
- 下一篇:零功耗待机电路