[发明专利]3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化方法有效

专利信息
申请号: 201210125773.3 申请日: 2012-04-25
公开(公告)号: CN102663204A 公开(公告)日: 2012-09-12
发明(设计)人: 侯立刚;汪金辉;白澍;彭晓宏;耿淑琴 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 魏聿珠
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 集成电路 自动 布局 tsv 位置 距离 优化 方法
【权利要求书】:

1.3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化法,其特征在于:将电路中间距小于工艺加工间距的TSV弹开,称这种方法为弹开法;逐个整理所有间距小于工艺加工间距的TSV,使他们的间距满足工艺加工间距约束;

具体步骤如下:

S1,建立3D集成电路版图直角坐标系:TSV初步定位的3D集成电路版图中建立直角坐标系A,坐标系A沿版图的边缘建立,其横轴沿版图的水平方向建立,纵轴沿版图的垂直方向建立;

S2,建立间距小于工艺加工间距的TSV对集合B:分别计算每个TSV在坐标系中的坐标,得到每个TSV在版图中的坐标点;利用平面直角坐标系的距离计算公式计算每个TSV的坐标与其他所有TSV的坐标做距离计算,求得任意两两TSV的距离;计算出所有TSV之间的距离后,建立两两间距小于工艺加工间距的TSV对的集合B;然后把间距小于工艺加工间距的TSV对放入集合B,其中所述TSV对包含两个TSV的坐标;计算集合B中TSV对的数目,

S3:当集合B中TSV对的数目等于0时,表明无需再进行优化,跳出优化过程;当集合B中TSV对的数目大于0时执行S4,

S4,弹开处理间距小于工艺加工间距的TSV对:选取集合B的TSV对中出现次数最多的TSV为基点;以基点作为圆心,以工艺加工间距为半径画圆,将落在此圆中的所有TSV沿着圆的径向移到该圆的圆周上;

循环执行S2、S3、S4,直至集合B中TSV对数目为零,跳出优化过程。

2.3D集成电路自动布局中TSV位置的距离优化装置,其特征在于:其包括有:

输入单元:用于建立3D集成电路版图直角坐标系:TSV初步定位的3D集成电路版图中建立直角坐标系A,坐标系A沿版图的边缘建立,其横轴沿版图的水平方向建立,纵轴沿版图的垂直方向建立;

TSV对存放单元:用于建立间距小于工艺加工间距的TSV对集合B:分别计算每个TSV在坐标系中的坐标,得到每个TSV在版图中的坐标点;利用平面直角坐标系的距离计算公式计算每个TSV的坐标与其他所有TSV的坐标做距离计算,求得任意两两TSV的距离;计算出所有TSV之间的距离后,建立两两间距小于工艺加工间距的TSV对的集合B;然后把间距小于工艺加工间距的TSV对放入集合B,其中所述TSV对包含两个TSV的坐标;

判断单元:用于判断TSV中TSV对的个数当集合B中TSV对的数目大于0时执行优化,当集合B中TSV对的数目等于0时,表明无需再进行优化;

弹开单元:用于弹开处理间距小于工艺加工间距的TSV对:选取集合B的TSV对中出现次数最多的TSV为基点;以基点作为圆心,以工艺加工间距为半径画圆,将落在此圆中的所有TSV沿着圆的径向移到该圆的圆周上。

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