[发明专利]硅基微型显示器驱动电路有效
申请号: | 201210122480.X | 申请日: | 2012-04-25 |
公开(公告)号: | CN102622965A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 季渊;冉峰;黄海浪;沈伟星;嵇维贵;徐美华 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | G09G3/32 | 分类号: | G09G3/32 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 何文欣 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微型 显示器 驱动 电路 | ||
1.一种硅基微型显示器驱动电路,包含了一个m行n列像素驱动电路阵列(101)、一个行驱动器(102)和一个列驱动器(103),其特征在于:所述像素驱动电路阵列(101)由若干结构相同的像素驱动电路子阵列(201)组成,每个像素驱动电路子阵列(201)包含有s行t列个像素驱动电路(301)和s个行缓存器(302),且每一个行方向上包含t个像素驱动电路(301)和1个行缓存器(302),所述行缓存器(302)在行方向上可位于任两个相邻像素驱动电路(301)中间;所述像素驱动电路子阵列(201)的数量为m/s行和n/t列,m/s的值和n/s的值均为整数;所述行驱动器(102)产生像素驱动电路阵列(101)所需要的选通信号,列驱动器(103)产生像素驱动电路阵列(101)所需要的数据信号。
2.根据权利要求1所述的硅基微型显示器驱动电路,其特征在于:所述像素驱动电路(301)由一个存储器单元(401)和一个驱动单元(402)组成;所述存储器单元(401)用于保存像素的开关状态,工作于低压电源VL,其输入为行驱动器(102)输出的选通信号和由列驱动器(103)输出的数据信号,其结构为单比特静态存储器单元或单比特动态存储器单元结构:静态存储器单元由5-10个MOSFET晶体管构成,动态存储器单元由1-2个MOSFET晶体管和1个电容构成;所述MOSFET晶体管尺寸均为CMOS工艺能够达到的最小特征尺寸,所述电容为多晶-绝缘体-多晶PIP电容、金属-绝缘体-金属MIM电容、金属-氧化物-金属MOM电容或深沟道电容,电容充电后维持的时间至少为500/f毫秒,f为显示器帧频,单位Hz;所述驱动单元(402)用于驱动像素发光,由驱动管T1和放电管T2构成,T1为一个宽长比为0.8至2的PMOS或NMOS晶体管,栅极连接所述存储器单元(401)的输出信号,源极连接高压电源VH的正电源,漏极作为该像素驱动电路(301)的输出,T2为一个工艺能够达到的最小宽长比的PMOS或NMOS晶体管,栅极连接芯片外部的放电信号,源极连接至该像素驱动电路(301)的输出,漏极连接高压电源VH的负电源。
3.根据权利要求1所述的硅基微型显示器驱动电路,其特征在于:所述行缓存器(302)由一级或多级反向器串联构成,所述反向器由一组对称互补的PMOS晶体管和NMOS晶体管构成;在CMOS工艺误差范围内,所有行缓存器的时序延时保持一致;所述行缓存器(302)用于增强行方向上的驱动能力,每个行缓存器可驱动32-512个最小特征尺寸的CMOS晶体管。
4.根据权利要求1所述的硅基微型显示器驱动电路,其特征在于:驱动电路采用的MOSFET晶体管的特征尺寸为0.13um至0.35um,采用xPyM CMOS工艺制成,其中,x代表多晶硅层数,取值1-2,y代表金属连线层数,取值2-6;支持双电压:其中,低压电源VL为1.0V-3.3V,用于向存储器单元(401)供电,高压电源VH为5V-12V,用于向驱动单元(402)供电;硅片表面采用由Al、W、Ti/TiN、Mo、Ag或Au金属材料构成的金属电极层,露出的金属作为像素阳极和共阴电极,非像素阳极和共阴电极的区域为氧化硅填充物。
5.根据权利要求1所述的硅基微型显示器驱动电路,其特征在于:在所述像素驱动电路(301)和行缓存器(302)的电路布局中,上下相邻两行的像素驱动电路(301)和行缓存器(302)符合如下规则:①呈上下镜像对称关系;②VL电源线与VH电源线分别位于像素驱动电路(301)和行缓存器(302)的上下两端,上下相邻的存储器单元(401)使用同一根VL电源线,上下相邻的驱动单元(402)使用同一根VH电源线;③低压阱与高压阱分别位于像素驱动电路(301)和行缓存器(302)的上下两端,上下相邻的存储器单元(401)的PMOS晶体管共享同一个低压阱,上下相邻的驱动单元(402)共享同一个高压阱;④VL接地线位于像素驱动电路(301)和行缓存器(302)的中间,供存储器单元(401)使用;⑤所述电源线与接地线的位置可互换,包括VL和VH:当采用P型衬底+N阱工艺时,采用所述②-④规则,N阱与电源线相连;当采用N型衬底+P阱工艺时,将②-④规则中的电源线与接地线的位置互换,P阱与接地线相连。
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