[发明专利]用于形成薄膜的沉积设备无效
申请号: | 201210120348.5 | 申请日: | 2012-04-13 |
公开(公告)号: | CN102732842A | 公开(公告)日: | 2012-10-17 |
发明(设计)人: | 赵晃新;宋基哲;郑胜哲;安祐正 | 申请(专利权)人: | 韩商SNU精密股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/54 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆勍 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 形成 薄膜 沉积 设备 | ||
相关申请案的交叉引用
本申请案主张于2011年4月13日向韩国知识产权局(Korean Intellectual Property Office)申请的韩国专利申请案第10-2011-0034338号的优先权和权利,所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
技术领域
本发明涉及一种用于形成薄膜的沉积设备,且更特定地说,涉及一种用于形成薄膜的沉积设备,其中有机物质可蒸发并以薄膜的形式沉积于衬底上。
背景技术
有机发光装置为自身可发光的下一代显示装置,这种显示装置与液晶显示(LCD)装置相比在视角、对比度、响应速度、功耗等方面是极佳的。
有机发光装置包括有机发光二极管,所述有机发光二极管依照矩阵类型连接于扫描线和数据线之间且形成像素。有机发光二极管包括阳极、阴极和有机薄膜层,所述有机薄膜层形成于阳极和阴极之间且具有空穴传送层、有机发光层和电子传送层。当施加预定电压于阳极与阴极之间时,从阳极注入的空穴和从阴极注入的电子在基于能量差发光的同时于发光层中重新组合。
用于有机薄膜层的沉积过程中以制造有机发光装置的有机物质不需要高蒸汽压,且与无机物质相反,所述有机物质在高温下容易分解和变性。归因于这样的材料特性,由钨材料制成的源容器中装满有机物质且经加热以蒸发有机物质,借此在衬底上沉积常见有机薄膜。
图1展示用于形成薄膜的常见沉积设备的实例。
参看图1,用于形成薄膜的常见沉积设备经设置以沉积源材料到支撑于垂直方向上的衬底10。此外,常见沉积设备包括:源容器20,所述源容器20的形状像圆柱管一样且在内部划分成下侧处的贮存空间21和上侧处的蒸发空间22,所述贮存空间21将装满源材料,源材料在蒸发空间22蒸发;加热器30,用于加热源容器20中的源材料;以及冷却器40,用于冷却源材料,从而可防止贮存空间21中装的源材料变性。
另外,用于形成薄膜的常见沉积设备包括:柱状头51,用于举起源材料;传送单元50,用于传送柱状头51;连接管60,用于将蒸发源材料引导到注入器70;以及喷孔71,用于在水平方向上喷射蒸发源材料。
然而,源容器能够贮存的沉积源的量是有限的,因而产生以下问题:必须频繁地重新装满用于沉积的源材料,且在所有这种情况下,用于形成薄膜的沉积设备应关闭。
同时,已提出向上注入源材料的方法,但所述方法的问题在于源材料附着到喷孔并堵塞喷孔,因此源材料并非朝衬底喷射,从而产生次品。在这种情况下,必须在生产暂停时用新的喷孔替换上面聚积有源材料的喷孔或清洗喷孔,且随后可重新开始生产。因此,难免会出现因停产导致的产量降低问题。
另外,如果蒸发材料聚积在喷孔或内部部件或操作单元上,则可能不仅对部件和单元的性能有影响,而且在严重的情况下会损坏部件和单元。特别是,使用的源材料越多,这种现象会越严重。
发明内容
因此,构思本发明以解决前述问题,且本发明的一个方面为提供一种用于形成薄膜的沉积设备,其中阻挡板提供于蒸发室内部以使源材料可稳定地且不断地蒸发,所述阻挡板用于防止从源容器飞溅的源材料或外来杂质附着到喷孔;源材料通过直接的温度控制而稳定地蒸发以使得均匀沉积和大面积沉积成为可能;且在不暂停生产的情况下,长时间的持续生产是可能的。
根据本发明的示范性实施例,提供一种用于形成薄膜的沉积设备,所述设备包括:源容器,待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳于所述源容器中;蒸发室,所述蒸发室在源容器上方耦接源容器并与源容器相通,且来自源容器的蒸发源材料穿过所述蒸发室;喷孔,所述喷孔形成于蒸发室的顶部上且向上喷射穿过蒸发室的蒸发源材料;第一加热器,所述第一加热器提供于蒸发室或源容器内部的源材料上方,且向源材料供应热量以蒸发容纳于源容器中的源材料;以及阻挡板,所述阻挡板提供于蒸发室内部的第一加热器上方,且在第一加热器向源材料供应热量时防止容纳于源容器中的源材料或外来杂质飞溅和附着到喷孔。
阻挡板的形状可像平板一样,且与蒸发室的内壁以预定距离间隔开。
所述设备可进一步包括第二加热器,所述第二加热器提供于蒸发室的顶部或侧面上,且向蒸发室供应热量以防止穿过蒸发室的蒸发源材料相变成液态或固态。
源容器可用可拆卸的方式耦接到蒸发室。
所述设备可进一步包括传送单元,所述传送单元用于在靠近第一加热器或远离第一加热器的方向上传送源材料。
所述设备可进一步包括传感器,所述传感器提供于蒸发室中且感应穿过蒸发室的蒸发源材料的量。
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