[发明专利]用于形成薄膜的沉积设备

权利要求书

1.一种用于形成薄膜的沉积设备，所述设备包括：

源容器，待沉积于衬底上的源材料以固态或液态容纳在所述源容器中；

蒸发室，所述蒸发室在所述源容器上方耦接所述源容器并与所述源容器相通，且来自所述源容器的蒸发源材料穿过所述蒸发室；

喷孔，所述喷孔形成于所述蒸发室的顶部上且向上喷射穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料；

第一加热器，所述第一加热器提供于所述蒸发室或所述源容器内部的所述源材料上方且向所述源材料供应热量以蒸发容纳于所述源容器中的所述源材料；以及

阻挡板，所述阻挡板提供于所述蒸发室内部的所述第一加热器上方且在所述第一加热器向所述源材料供应热量时防止容纳于所述源容器中的所述源材料或外来杂质飞溅和附着到所述喷孔。

2.如权利要求1所述的设备，其中所述阻挡板的形状像是平板一样，且与所述蒸发室的内壁以预定距离间隔开。

3.如权利要求1所述的设备，进一步包括第二加热器，所述第二加热器提供于所述蒸发室的顶部或侧面上且向所述蒸发室供应热量以防止穿过所述蒸发室的所述蒸发源材料相变成液态或固态。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述源容器用拆卸的方式耦接到所述蒸发室。

5.如权利要求1所述的设备，进一步包括传送单元，所述传送单元用于在靠近所述第一加热器或远离所述第一加热器的方向上传送所述源材料。

6.如权利要求1所述的设备，进一步包括传感器，所述传感器提供于所述蒸发室中且感应穿过所述蒸发室的蒸发源材料的量。

7.如权利要求1所述的设备，进一步包括：

传送单元，所述传送单元在靠近所述第一加热器或远离所述第一加热器的方向上传送所述源材料；

传感器，所述传感器提供于所述蒸发室中且感应穿过所述蒸发室的蒸发源材料的量；以及

控制器，所述控制器从所述传感器得到关于蒸发源材料的所述量的反馈，且如果蒸发源材料的所述量小于预先设置的参考量，所述控制器则向所述传送单元发射信号以使所述源材料可在靠近所述第一加热器的方向上传送或发射用于提高所述第一加热器的温度的信号，且如果蒸发源材料的所述量大于所述预先设置的参考量，所述控制器则向所述传送单元发射信号以使所述源材料可在远离所述第一加热器的方向上传送或发射用于降低所述第一加热器的温度的信号。