[发明专利]用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材，其特征在于组成成分按重量百分比是：50~60 wt.% Au-30~42 wt.% Cu-1.4~5.0 wt.% Zn-0.5~4.0 wt.% Al-1.0~3.7 wt.% In-0.1~1.3 wt.% Co-0.05~1.5 wt.% Y。

2.根据权利要求1所述的一种用于真空磁控溅射的低含金量玫瑰金靶材的制备方法，其特征在于按照以下步骤进行：

（1）中间合金的熔炼：按照75~84 wt.% Cu-3.1~12.5 wt.% Zn-1.0~8.3 wt.% Al-2.1~8.3 wt.% In-0.2~2.9 wt.% Co-0.1~3.6wt.% Y进行配料，将纯金属Cu和Co加热熔化，再将纯金属Y、In、Al和Zn依次加入到熔化的铜钴合金中，待全部金属熔化后搅拌均匀，然后在1400~1450^oC下保温精炼3~5min，精炼完毕后将熔化的合金浇入到预热的模具中，自然冷却至室温，从而获得中间合金；

（2）玫瑰金靶材的制备：将Au加热熔化，然后将上述中间合金加入到熔化的Au中，中间合金的加入量占全部物料的40~50 wt.%，待全部物料熔化后搅拌均匀，然后在1150~1250^oC下精炼3~5min，精炼完毕后将合金液浇入到预热的模具中，然后取出水淬获得合金锭，对合金锭进行机械加工，获得玫瑰金靶材，其组成成分按重量百分比是：50~60 wt.% Au-30~42 wt.% Cu-1.4~5.0 wt.% Zn-0.5~4.0 wt.% Al-1.0~3.7 wt.% In-0.1~1.3 wt.% Co-0.05~1.5 wt.% Y。