[发明专利]一种高压电瓷再生工艺方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种高压电瓷再生工艺。

技术背景

根据现有资料统计分析，2011年我国电瓷生产产值约300亿元，在现有生产工艺条件下，电瓷生产过程中的瓷检合格率在80％～85％左右，出口灰釉产品70％～80％。其主要缺陷为开裂、针孔、铁点、碰瓷、缺釉、落砂。其中变形、开裂等共约占5％～8％左右，表面缺陷综合约占6％～10％。这一外观缺陷损失全国约有15亿元左右。对这些缺陷，过去的做法是采用有机材料进行修补。

随着国内外电瓷产品对外观的要求越来越高，欧美市场及中亚高端客户现已禁止使用有机材料修补这一方法，这条路再也行不通了，如果不采取新的生产工艺进行补救，仅因外观缺陷而报废产品，将给社会造成巨大经济损失和环境污染。

电瓷生产是一种劳动密集型产业，其生产技术水平和条件难以达到零缺陷的外观要求，根据这一状况，采取无机材料对电瓷再生产，使电瓷产品不因外表缺陷报废，进而有效的再生利用，可以说，电瓷再生技术具有广大的市场，如果该技术推广到全国电瓷行业，其经济效益每年将接近15亿元，节约瓷泥资源30万吨，节约标煤20万吨左右。

发明内容

本发明的目的就是提供一种利用无机材料，对有表面缺陷的电瓷产品进行再加工的生产方法，它不仅使部分已报废的产品重获新生，节约了能源，减少了次生垃圾的产生，变废为宝，而且大大地节约了瓷泥资源，有效地提高了劳动价值，保护了环境。

本发明的技术方案是通过以下途径实现的：它的主要工艺流程是配色、制釉、喷涂、上釉、烧成。其中：

配色工艺要求调配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色必须与可再生产品的色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容。

制釉工艺中，釉的粘度值控制在180～220帕斯卡·秒，表面张力为0.25～0.35N/m，润湿角大于90°。

上釉工艺中，对有缺陷的电瓷产品的缺陷处进行精细的打磨抛光，然后再喷上一层薄薄的再生釉，釉层厚度控制在0.15～0.25mm之间。

烧成工艺中，产品烧成温度控制在700℃～1000℃，且在釉中加入70％～85％已经烧制好的低温石英熔块，8％～20％的高岭土，2％～8％的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂。

升温曲线：200℃之前，升温速度不大于30℃/h，500℃～600℃，升温速度不大于20℃/h，700℃～釉玻化，升温速度40℃/h，保温1小时。

降温曲线：停火～600℃为快速降温，降温速度大于60℃/h，600℃～室温加15℃为缓慢降温，降温速度小于30℃/h。

本发明不仅使部分已报废的产品重获新生，节约了能源，减少了次生垃圾的产生，变废为宝，而且大大地节约了瓷泥资源，有效地提高了劳动价值，保护了环境。

具体实施方式

本发明的具体实施方式。

本发明的技术方案是通过以下途径实现的，它的主要工艺流程含配色、制釉、上釉、烧成。其中：

配色工艺是调配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色要求与可再生的产品色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容。

制釉工艺中，釉的粘度值控制在180～220帕斯卡·秒，表面张力为0.25～0.35N/m，润湿角大于90°。

上釉工艺中，对有外表缺陷的电瓷产品打磨抛光，然后再喷上一层再生釉，釉层厚度控制在0.15～0.25mm之间。

烧成工艺中，产品烧成温度控制在700℃～1000℃，且在釉中加入70％～85％已经烧制好的低温石英熔块，8％～20％的高岭土，2％～8％的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂，本发明采用的乳浊剂为硅酸锆。

升温曲线：20)℃之前，升温速度不大于30℃/h；500℃～600℃，升温速度不大于20℃/h；700℃～1000℃釉玻化。

升温速度40℃/h，保温2小时；降温曲线：停火～600℃为快速降温，降温速度大于60℃/h；600℃～室温加15℃为缓慢降温，降温速度小于30℃/h。

低温石英熔块主要化学成分和重量百分比如下：

SiO₂：43％～48％、Al₂O₃：5％～7％、MgO：2.0％～2.4％、K₂O：6.5％～8.5％、Na₂O：4.5％～6.3％、CaO：9％～12％

高岭土主要化学成分和重量百分比如下：