[发明专利]一种高压电瓷再生工艺方法

权利要求书

1.一种高压电瓷再生工艺，它的主要工艺流程含配色、制釉、上釉，烧成，其特征在于所述的：

A)配色工艺是配出相应颜色的无机釉料，该无机釉料的外观颜色力求与可再生的产品色彩完全一致，并与其膨胀系数相兼容；

B)制釉工艺中，釉的粘度值控制在180～220帕斯卡·秒，表面张力为0.25～0.35N/m，润湿角大于90°；

C)上釉工艺中，对可再生电瓷产品进行精细的打磨抛光，然后再喷上一层再生釉，釉层厚度控制在0.15～0.25mm之间；

D)烧成工艺中，产品烧成温度控制在700℃～1000℃，且在釉中加入70％～85％已经烧制好的低温石英熔块，8％～20％的高岭土，2％～8％的与产品颜色相近的色剂颜料和乳浊剂；

升温曲线：200℃之前，升温速度不大于30℃/h；500℃～600℃，升温速度不大于20℃/h；700℃～1000℃釉玻化，升温速度40℃/h，保温1.5～2.5小时；

降温曲线：停火～600℃为快速降温，降温速度大于60℃/h，600℃～室温加15℃为缓慢降温，降温速度小于30℃/h。

2.根据权利要求1所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的低温石英熔块主要化学成分和重量百分比为：SiO₂：43％～48％、Al₂O₃：5％～7％、MgO：2.0％～2.4％、K₂O：6.5％～8.5％、Na₂O：4.5％～6.3％、CaO：9％～12％。

3.根据权利要求1所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的高岭土主要化学成分和重量百分比为：SiO₂：53％～59％、Al₂O₃：23％～28％、Fe₂O₃：≤2.2％、K₂O+Na₂O：≥2.5％、灼减：≤15％。

4.根据权利要求1所述的一种高压电瓷再生工艺，其特征在于所述的乳浊剂为硅酸锆。