[发明专利]一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的产品

说明书

技术领域

本发明涉及防伪领域，尤其涉及一种适用于钞票、信用卡、护照和有价证券等各类高安全产品和高附加值产品的光学防伪元件，还涉及使用该光学防伪元件的产品，诸如钞票、信用卡、护照和有价证券等。

背景技术

由于光学防伪元件具有独特的视觉效果和易识别性，所以被广泛应用于钞票、信用卡、护照和有价证券等高安全产品以及其它高附加值产品中。

CN101563640、CN101443692、CN101120139、CN101346244、US5712731、US0034082、US4765656、US4892336、CN1271106、CN1552589等专利文献中公开了同一类在基材的两个表面上分别带有微透镜阵列和微图文阵列的防伪元件，其中微图文阵列位于微透镜阵列的焦平面附近，通过微透镜阵列对微图文阵列的莫尔放大作用来再现具有一定景深或呈现动态效果的图案。在这种结构的防伪元件中，微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内，因此在制作过程中，首先需要对微图文阵列和微透镜阵列分别进行原版制备，然后在生产中在薄膜基材的两侧上分别对微图文阵列和微透镜阵列进行批量复制。这种结构的防伪元件的缺陷在于：(1)该结构要求微透镜阵列、微图文阵列均为周期性排列，在制作原版时其周期误差在亚微米级，因此制作难度高；(2)在生产过程中，需要在基材的两个表面上依次分别进行加工，因此工艺流程复杂；(3)在生产过程中，需要解决微透镜阵列和微图文阵列的对位问题，因此工艺可控性低；(4)由于生产过程中无法保证微图文阵列和微透镜阵列的严格对位，所以一些防伪效果无法达到预期甚至无法实现。

CN101563640公开了一种反射结构，在该反射结构中，将微透镜阵列和微图文阵列重叠制作在防伪元件的基材上，即微透镜阵列和微图文阵列位于基材的同一侧上，基材的另一侧上则镀有反射层，其中微图文阵列通过反射层所形成的虚像的位置位于微透镜阵列的焦平面附近，从而使微透镜阵列通过基材另一侧上的反射层对与其相邻层的微图文阵列进行成像。该防伪元件结构在生产时首先需要在基材上加工微图文阵列层，在此基础上再加工微透镜阵列层，其本质也属于微透镜阵列和微图文阵列分别位于各自的平面内。因此该防伪元件结构仍然具有上文中提到的四点缺陷，并且，由于微图文阵列与微透镜阵列相互重叠、相互干扰，从而影响采样合成再现图像的像质，更进一步地降低了安全元件的防伪效果和实用价值。

发明内容

本发明针对现有技术中的上述缺点，提供一种能够克服上述缺陷的光学防伪元件以及使用该光学防伪元件的产品。

本发明提供一种光学防伪元件，所述光学防伪元件包括基材、位于所述基材的第一表面上且至少部分覆盖所述基材的第一表面的微浮雕结构以及位于所述基材的第二表面上且至少部分覆盖所述基材的第二表面的反射层，其中，所述微浮雕结构包括微透镜阵列以及嵌套在所述微透镜阵列中且与所述微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合的微图文阵列，所述微透镜阵列能够通过所述反射层对所述微图文阵列进行采样合成，从而形成再现图像。

本发明还提供一种使用上述光学防伪元件的产品。

由于根据本发明的光学防伪元件和使用该光学防伪元件的产品包括微浮雕结构、基材和反射层，微浮雕结构位于基材的其中一侧上并且包括微图文阵列和微透镜阵列，而且微图文阵列嵌套在微透镜阵列中并且与微透镜阵列位于同一平面内但与所述微透镜阵列不重合，而反射层则位于基材的另一层上，所以其具有以下优点：(1)微透镜阵列和微图文阵列可以在制作原版时一次成型，即在制作原版时即完成了微透镜阵列和微图文阵列的严格对位，不需要在后期生产过程中考虑对位问题，从而工艺可控性好，制作难度低；(2)在生产时只需在基材的一个表面上进行一次加工即可完成微透镜阵列和微图文阵列的制作，因此工艺流程简单；(3)由于保证了微图文阵列和微透镜阵列的严格对位，所以能够实现一些复杂的防伪效果。

附图说明

图1为根据本发明的光学防伪元件的一种实现方式的剖面图；

图2和图3分别示出了根据本发明的光学防伪元件中的微浮雕结构所包括的微透镜阵列和微图文阵列的一种排列方式；

图4为根据本发明的采用锯齿型反射层的光学防伪元件的剖面图；

图5为根据本发明的在微浮雕结构上覆盖有保护层的光学防伪元件的剖面图；