[发明专利]一种去除污水中抗生素抗性基因的方法

权利要求书

1.一种去除污水中抗生素抗性基因的方法，其特征在于具体步骤如下：

(1)混凝沉淀

收集污水进入混凝沉淀池，使用絮凝剂PAC和混凝剂PAM进行混凝沉淀处理，所述的絮凝剂PAC的投加量为3-5mg/L废水，混凝剂PAM的投加量为1-3mg/L废水；沉淀后得上清液进入砂滤池进一步去除水体浊度；

(2)生化处理

将步骤(1)砂滤后出水采用厌氧-缺氧-好氧(A²/O)活性污泥工艺去除污水中的氮、磷和COD，去除后出水经二沉池进行泥水分离。

(3)过氧乙酸消毒

将经过步骤(2)生化处理后的二沉池出水用泵送入消毒塔，加入过氧乙酸消毒10min，过氧乙酸加入量为80-100mg/L；

该过氧乙酸的制备工艺为：先取冰醋酸放入桶中，加入2％硫酸混匀，然后加入30％的过氧化氢(过氧化氢与冰醋酸用量比为1∶2)，加入1g/L浓度为0.1％磷酸作为稳定剂，在室温下放置2天后使用。

(4)高压CO₂消毒工艺

往步骤(3)中的消毒塔内注入0.5-1.5Mpa高压CO₂气体，高压CO₂气体由高压CO₂钢瓶经过减压阀和高压管道，通过消毒塔底部的微孔曝气管进入消毒塔，分布在溶液中进行杀菌，高压CO₂通入时间为5-10min；

(5)纳米二氧化钛光催化

步骤(4)得到的高压CO₂消毒出水送入纳米二氧化钛(TiO₂)光催化氧化池；所述光催化氧化池加入球形纳米级二氧化钛悬浮式填料，所述球形纳米级二氧化钛悬浮式填料包括核体和涂层两部分，核体外包覆着纳米级TiO₂涂层，核体采用聚乙烯材料一次注塑成型，核体球半径在3～10cm之间；涂层为粒径小于100nm的TiO₂粉体浸涂形成，涂层厚度在0.05～0.45mm之间；所述球形纳米级二氧化钛悬浮式填料的比重为水的比重的95～99.8％；

同时，在沉淀池中30°斜放一个的复合三层的多组纳米二氧化钛网，白天阳光、阴天和日落后紫外线的照射下，再一次氧化、分解、降解，去除污水中的抗性基因。

所述纳米二氧化钛网是不锈钢网上加涂纳米级二氧化钛涂层形成的；

(6)步骤(5)后沉淀1h，精滤，去除水中的剩余杂质，得到处理回收的水。

2.如权利要求1中所述的一种去除水和废水中抗性基因的方法，其特征在于：步骤1)中的所述絮凝剂为聚合硫酸铁液体；所述混凝剂采用聚二甲基二烯丙基氯化铵、聚合氯化铝，硫酸铝、氯化铁的混合物，其混合比例为3∶2∶1∶1，用量为20～150mg/L；

3.如权利要求1-2中所述的一种去除水和废水中抗性基因的方法，其特征在于：步骤5)中所述球形纳米级二氧化钛悬浮式填料的核体的形状是椭圆体、中空球体、四方体、长方体。