[发明专利]二氢吡啶类化合物、其组合物、制备方法和用途

权利要求书

1.二氢吡啶类化合物，为具有以下通式(I)的化合物：

其中，R¹选自烷基、取代烷基、芳基、取代芳基、杂芳基或取代杂芳基；

R²选自氢、烷基、取代烷基或者R²与R³形成杂环；

R³选自烷基、取代烷基、芳基、取代芳基、杂芳基、取代杂芳基或者R³与R²形成杂环。

2.如权利要求1所述的二氢吡啶类化合物，其中通式(I)化合物选自如下式(I-1)至(I-15)的化合物： 

3.如权利要求1所述的二氢吡啶类化合物，其中通式(I)的化合物为对映异构体、非对映异构体、构象异构体中的任意一种，或任意两者、三者或四者的混合物。

4.如权利要求1所述的二氢吡啶类化合物，其中所述通式(I)的化合物包含所述化合物药学可接受的衍生物。

5.如权利要求1所述的二氢吡啶类化合物，其中所述通式(I)的化合物以药学上可接受的盐的形式存在。

6.如权利要求5所述的二氢吡啶类化合物，其中所述通式(I)的化合物药学上可接受的盐为通式(I)化合物的盐酸盐、氢溴酸盐、硫酸盐、磷酸盐、乙酸盐、三氟乙酸盐、甲磺酸盐、三氟甲磺酸盐、对甲苯磺酸盐、酒石酸盐、马来酸盐、富马酸盐、琥珀酸盐或苹果酸 盐。

7.一种制备权利要求1所述的二氢吡啶类化合物的方法，其特征在于，所述通式(I)的化合物通过以下方法制备而成：以环己酮-4-甲酸乙酯(1)为原料，在N，N-二甲基甲酰胺二甲基缩醛(DMF-DMA)的作用下转化为中间体(2)，该中间体(2)与肼反应，环化为吡唑类化合物(3)；将吡唑类化合物(3)中的酯基以还原剂进行还原，得到中间体(4)；然后将中间体(4)吡唑的胺基以适当的保护基保护得中间体(II)，再将中间体(II)的醇羟基以适当的条件氧化，得到醛类中间体(III)；醛类中间体(III)与氰基酮类化合物(A)缩合，得中间体(IV)，中间体(IV)再与胺基烯腈类原料(B)缩合，然后在适当的条件下脱除保护基，即得通式(I)的化合物(I)。具体路线如下：

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述还原剂为氢化锂铝、硼氢化钠。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述适当的保护基为叔丁氧羰基、苄氧羰基、对甲氧基苄基。

10.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述适当的条件的氧化为Dess-Martin氧化、Swern氧化。 

11.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述保护基为胺基保护基。

12.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述胺基保护基为叔丁氧羰基、苄氧羰基、对甲氧基苄基。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述在适当的条件下脱除保护基是指：采用氯化氢的有机溶液或三氟醋酸/二氯甲烷脱除叔丁氧羰基；采用催化氢化的方法脱除苄氧羰基；或者采用三氟醋酸脱除对甲氧基苄基。

14.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述胺基烯腈类原料(B)中R₂与R₃的组合选自以下(B-1)至(B-3)所示结构：