[发明专利]制法报告卡框架和方法有效

专利信息
申请号: 201210075014.0 申请日: 2008-03-26
公开(公告)号: CN102637022A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 黄忠河;罗伯特·赫夫蒂;安德鲁·吕;戴夫·洪伯德;查尔斯·波特 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;H01L21/67
代理公司: 上海胜康律师事务所 31263 代理人: 李献忠
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 制法 报告 框架 方法
【说明书】:

本申请是2009年9月29日提交的中国申请号为200880010615.5(国际申请号为PCT/US2008/058319)、发明名称为“制法报告卡框架和方法”的发明专利申请的分案申请。

背景技术

等离子处理的进步促进了半导体工业的发展。半导体工业早已采用多种制法以生产新器件(例如,MEM,芯片等)。可使用不同的制法来执行基片处理。多个制法往往是复合的并且通常在工程师的知识和/或经验的基础上创建的。

考虑这种情况,例如,其中,将处理系统部署于器件制造商工厂。进而,处理系统的制造商会继承最好的已知方法以辅助器件制造商创建制法。器件制造商会采用这些最好的已知方法来定制制法。另外,所定制的制法也基于器件制造商的工程师的知识和经验、经验数据、试错法等。

通常,一种制法的成功执行会取决于该制法之外的其他变化因素。其他变化因素包括,但不限于,晶片的状态、处理系统的室状态、晶片环境等。结果,工程师不仅要具有制法的丰富知识,还需要理解制法如何与其他变化因素相互作用,如上面提到的那些。

在一个示例中,已经创建了一个制法并且工程师应用这个制法来生产多个器件。在该制法的执行期间,会采集多个数据。可能采集的数据可以是大量的数据点。吸收这些数据的能力、确定哪些数据点是关键数据点的能力和/或分析数据以修改制法的能力取决于工程师的技能和经验。例如,工程师需要理解制法以及制法如何与可能影响该制法执行的其他变化因素相互作用。不幸的是,一个工程师的技术水平和经验会有变化,以及因此反映出制法的“质量”。即使工程师具备这些技能和经验,工程师也不能解释在创建新的制法和/或修改当前制法中的所有不同的变化因素。

在另一示例中,在制法的执行中会出现问题。分析数据以调试问题的能力也取决于工程师的经验以及他考虑到会导致该问题的不同变化因素而确定该问题的能力。传统上,可能产生的问题通常假设为硬件问题。结果,会将该处理系统离线以调试问题。然而,问题的原因并不总是由处理系统导致的。例如,在制法执行期间出现的大约60%的脱卡(de-chuck)问题通常不是硬件问题,而是“坏的制法”导致的。不幸的是,到那时,处理系统已经被作为问题的潜在源除去了,该制法已经被认为是问题的源,蒙受相当的时间和资源损失。

发明内容

在一个实施例中,本发明涉及用于执行制法评估的计算机实现的方法。该计算机实现的方法包括将多个数据源集成到单个制法报告卡框架。该制法报告卡框架包括编辑器,用以与该多个数据源交互。该计算机实现的方法还包括显示多个图表显示。该多个图表显示的每个图表显示配置为表示用于至少一个基片的一组信号参数的一个信号参数。该计算机实现的方法进一步包括为该组信号参数的每个提供多个准则。该计算机实现的方法又包括为该组信号参数的每个提供多个范围。该计算机实现的方法又进一步包括提供专家级指导,其配置为提供制法分析中的指导。

上面的概要仅涉及这里公开的本发明许多实施例的一个,并且不是为了限制本发明的范围,其在这里在权利要求中阐述。下面在本发明详细描述中结合附图更详细的描述本发明的这些和其他特征。

附图说明

在附图中,本发明作为示例而不是作为限制来说明,其中类似的参考标号指示相似的元件,其中:

图1示出,在本发明的一个实施例中,制法报告卡框架的简图。

图2示出,在一个实施例中,制法报告卡界面主视图的示例。

图3示出,在本发明的一个实施例中,信号跟踪更深入的视图。

图4示出,在本发明的一个实施例中,制法报告卡界面的帮助视图。

图5示出,在本发明的一个实施例中,说明如何应用制法报告卡编辑器以促进协作的示例的流程图。

图6示出,在本发明的一个实施例中,说明如何应用制法报告卡编辑器来促进创建/修改制法的示例的流程图。

图7示出,在本发明的一个实施例中,说明如何应用该制法报告卡编辑器促进故障诊断的示例的流程图。

具体实施方式

现在将根据其如在附图中说明的几个实施方式来具体描述本发明。在下面的描述中,阐述许多具体细节以提供对本发明的彻底理解。然而,对于本领域技术人员,显然,本发明可不利用这些具体细节的一些或者全部而实施。在其他情况下,公知的工艺步骤和/或结构没有详细说明,以避免对本发明的不必要的混淆。

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