[发明专利]制法报告卡框架和方法

权利要求书

1.一种用于执行制法评估的装置，所述装置包括：

将多个数据源集成进单个制法报告卡框架的模块，所述制法报告卡框架包括编辑器，用以与所述多个数据源交互，所述多个数据源包括等离子处理环境数据，所述处理环境数据包括等离子处理工具数据；

用于显示来自所述多个数据源的一组信号参数的多个图表显示的模块；

用于提供用于该组信号参数的每个的多个准则的模块；

用于提供用于该组信号参数的每个的多个范围的模块；和

用于提供专家级指导的模块，所述专家级指导配置为在分析制法中提供指导；

用于提供包括多个帮助片段的帮助区域的模块；和

用于提供对用户点击所述帮助区域中的帮助片段作出响应的帮助对话框的模块，所述帮助对话框提供所述多个准则中的一个或多个的状态的一个或多个原因，所述一个或多个原因是至少来源于半导体工业标准和半导体工业工具制造的专家级知识的集合。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述信号参数是基片的信号追踪，所述信号追踪是在用于所述基片的所述制法的执行期间采集的数据。

3.根据权利要求2所述的装置，其中所述多个准则基于最佳已知方法。

4.根据权利要求3所述的装置，其中所述多个范围显示为所述状态，所述状态是通过和失效之一。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述制法报告卡框架包括用于提供注释区域的模块，所述注释区域为用户提供用于为所述状态提供解释的位置。

6.根据权利要求5所述的装置，进一步包括提供对所述用户点击做出反应的所述专家级指导，其中所述专家级指导包括为了针对所述多个准则的每个准则处理问题用户所要采取的措施的指令。

7.根据权利要求1所述的装置，进一步包括提供多个数据输出的模块，所述数据输出包括报告。

8.根据权利要求1所述的装置，其中所述制法报告卡框架配置为提供协作功能，所述协作功能促进一组用户之间的协作。

9.根据权利要求1所述的装置，其中所述制法报告卡框架配置为执行分级功能，所述分级功能包括关于所述制法执行的信息。

10.根据权利要求1所述的装置，其中所述等离子处理环境数据包括等离子处理工具标识符和等离子处理室标识符。

11.根据权利要求1所述的装置，其中所述组信号参数包括气压和射频。

12.根据权利要求1所述的装置，其中所述专家级指导进一步配置成为修改所述制法提供指导。

13.根据权利要求1所述的装置，进一步包括用于为所述组信号参数的给定的信号参数示出多个信号追踪的模块。

14.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

用于将所述多个数据源的至少一部分结合进文件的模块；和

用于导出所述文件的模块。

15.根据权利要求14所述的装置，进一步包括用于将所述文件导入第二编辑器的模块。