[发明专利]监测溶液加工能力的方法及装置、刻蚀系统

说明书

技术领域

本发明属于平面显示器领域，涉及一种监测溶液加工能力的方法及装置、刻蚀系统。

背景技术

显影和刻蚀工艺是薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)生产过程中常用的加工方法。其中，显影工艺是将曝光图样放入显影液中使图样显现出来的工艺，刻蚀工艺是使金属膜按照显影后的图样刻蚀，以获得所需图样的金属膜。

对于显影系统/刻蚀系统而言，显影工艺/刻蚀工艺所需的显影液/刻蚀液是循环使用的，显影液/刻蚀液的浓度会随着生产过程而下降或随着生产而被污染，导致显影液/刻蚀液的加工能力下降，如果不及时的更换或添加新的显影液/刻蚀液，则容易造成显影/刻蚀不充分，即出现欠显影/欠刻蚀现象。因此，在实际的生产过程中，需要对显影液/刻蚀液进行实时的监测，并根据监测结果更换或添加新的显影液/刻蚀液，以确保显影/刻蚀的效果。

目前所采用的监测方法是通过对显影液/刻蚀液的某些物理或化学性质，如电导率进行监测而计算获得，如果监测值超出能够满足显影/刻蚀效果的范围时，更换显影液/刻蚀液。然而，上述监测方法不能真实有效地对显影液/刻蚀液的加工能力进行评估，即不能真实有效地分析显影液/刻蚀液的加工能力是否能够满足工艺的要求，从而容易造成显影效果/刻蚀效果的不良，或者造成显影液/刻蚀液的浪费。

发明内容

本发明要解决的技术问题就是针对现有技术中存在的上述缺陷，提供一种监测溶液加工能力的方法，其可以实时、准确地监测溶液的加工能力是否满足工艺要求，从而可以提高溶液的加工效果，同时避免溶液的浪费。

本发明还提供一种监测溶液加工能力的监测装置，其可以实时、准确地监测溶液的加工能力是否满足工艺要求，从而可以提高溶液的加工效果，同时避免溶液的浪费。

另外，本发明还提供一种刻蚀系统，其可以实时、准确地监测刻蚀液的加工能力是否满足工艺要求，从而可以提高刻蚀液的加工效果，同时避免刻蚀液的浪费。

解决上述技术问题的所采用的技术方案是提供一种监测溶液加工能力的方法，其用于在溶液腐蚀被加工工件的流水生产线中监测所述溶液的加工能力是否满足工艺要求，包括以下步骤：

在所述溶液腐蚀所述被加工工件的流水生产线的设定位置上，用光线照射所述被加工工件；

获得设定位置处透过所述被加工工件的透射光的强度；

根据透过所述被加工工件的透射光的强度评估所述溶液的加工能力是否满足工艺要求。

其中，评估所述溶液的加工能力是否满足工艺要求的方式包括：

所述透射光的强度包括透射光的下限监测强度，用于监测溶液加工能力的下限；

比较所述透射光的下限监测强度与预设的标准透射光的强度的下限，若所述透射光的下限监测强度小于或等于所述预设的标准透射光的强度的下限，则表明所述溶液的加工能力偏低；或者，

根据所述透射光的下限监测强度获得透射光的下限监测透过率，比较所述透射光的下限监测透过率与预设的标准透射光的透过率的下限，若所述透射光的下限监测透过率小于或等于所述预设的标准透射光的透过率的下限，则表明所述溶液的加工能力偏低。

其中，，评估所述溶液的加工能力是否满足工艺要求的方式还包括为：

所述透射光的强度还包括透射光的上限监测强度，用于监测溶液加工能力的上限；

比较所述透射光的上限监测强度与预设的标准透射光的强度的上限，若所述透射光的上限监测强度大于所述预设的标准透射光的强度的上限，则表明所述溶液的加工能力偏高；

或者，根据所述透射光的上限监测强度获得光的上限监测透过率，比较所述透射光的上限监测透过率与预设的标准透射光的透过率的上限，若所述透射光的上限监测透过率大于所述预设的标准透射光的透过率的上限，则表明所述溶液的加工能力偏高。

本发明还提供一种监测溶液加工能力的监测装置，其用于在溶液腐蚀被加工工件的流水生产线上监测所述溶液的加工能力是否满足工艺要求，包括：

光学监控单元，其用于在所述溶液腐蚀所述被加工工件的流水生产线的设定位置上，获得透过所述被加工工件的透射光的强度，并将获得的透过所述被加工工件的透射光的强度信号发送至分析单元；

分析单元，其根据接收到的所述光学监控单元获得的透过所述被加工工件的透射光的强度信号计算所述溶液的加工能力是否满足工艺要求。

其中，所述光学监控单元包括光发射装置和光接受装置，所述光发射装置与所述光接受装置相对地设置在所述被加工工件的两侧，其中，

所述光发射装置用于朝向所述被加工工件表面发出光；