[发明专利]蒸发源及蒸镀装置

说明书

技术领域

本发明涉及用于使规定的蒸镀材料蒸镀在被蒸镀体上的蒸发源及蒸镀装置。

背景技术

作为在规定的对象物上形成蒸镀膜而构成的装置，具有有机EL显示器、有机EL照明等。其中有机EL显示器常用作不需要背光的低消耗电力、轻质薄型的图像显示装置。作为其构造，在透明性的玻璃基板上形成规定的蒸镀膜作为薄膜层。作为该薄膜层，具有发光层、注入层、输送层等有机EL薄膜层、还有形成金属配线的电极层等。

各层在基板的形成主要使用真空蒸镀法。真空蒸镀法在维持了10^-3～10^-5Pa的高真空状态的腔室中配置用于放出蒸镀材料的分子的蒸发源。蒸发源由封入蒸镀材料的坩埚和加热器断面构件(ヒ一タ断面部材)构成。由加热器对坩埚进行高温加热，使蒸镀材料蒸发或升华(以下称为蒸发)，从设在坩埚上的喷嘴朝外部放出蒸镀材料的分子。在腔室内配置基板及紧密地贴合在该基板上的蒸镀掩模(金属掩模)，使从坩埚蒸发的蒸镀材料蒸镀到基板上。在蒸镀掩模上形成规定图案的开口部，由此在基板上形成规定图案的薄膜层。

蒸镀材料在常温下基本上成为固体状态，在高真空下在坩埚内部受到高温加热而蒸发。为此，从蒸发源的喷嘴部产生辐射，成为配置在该腔室内的基板及蒸镀掩模的温度上升的原因。基板为玻璃原材料，蒸镀掩模一般为低膨胀的金属原材料。作为该原材料，使用因瓦合金材料、超因瓦合金材料、42-合金等。另外，以电视机生产为目标的生产商也在增加，现在走向基板尺寸增大的趋势，1边超过1.0m、1.5m的基板也开始被使用。为此，蒸镀掩模和基板的配合偏差不断增大。

形成在基板上的薄膜层的图案在对每个发光色分开涂敷薄膜层的场合要求非常高的精度。为此，基板与蒸镀掩模之间必须预先严格地调准(定位)并紧密地贴合，并且维持着该调准精度进行蒸镀。此时，若通过辐射热的作用产生基板与蒸镀掩模的热膨胀的差，则在基板与蒸镀掩模的图案之间产生尺寸偏差。特别是若辐射热使两者成为高温，则产生大的位置偏差，不能进行正确的图案形成。

对于该问题，在专利文献1中公开了在坩埚上部配置有隔热构件(辐射阻止体)的技术。在该技术中，在坩埚上部设置有用于防止坩埚的辐射热作用于基板的辐射阻止体。在坩埚上设置用于射出蒸镀材料的突出部，在该突出部的周围配置辐射阻止体。另外，为了避免蒸发了的蒸镀材料附着到辐射阻止体，在与突出部的射出侧开口部相同的高度或比其低的位置设置辐射阻止体。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-214185号公报

专利文献1的突出部的出射侧开口部比辐射阻止体更突出，或按处在相同高度的位置的方式构成。为此，突出部的前端部位从辐射阻止体朝基板及蒸镀掩模露出。突出部朝周围热辐射，所以产生温度下降。

突出部成为蒸发了的蒸镀材料的通过路径，若为高温，则没有特别的问题，但随着一定温度以下的温度下降，附着到突出部的孔的内面的蒸镀材料析出。然后，在孔的内面析出了的蒸镀材料逐渐成长，最终将突出部的孔的前端附近闭塞，产生堵塞。若在突出部产生堵塞，则不能继续进行蒸镀作业，必须解除真空腔室的真空状态，进行维修。

另外，由于坩埚成为极高温状态，所以，为了使得辐射热的作用不影响到基板、蒸镀掩模，必须使辐射阻止体具有高的隔热功能。通常形成被称为反射器的辐射阻止体，该辐射阻止体通过离开、层叠了多个两面为镜面的反射镜而构成，但在用一个构成的场合，必须增大热膨胀率低的材料的板材的厚度。因此，作为辐射阻止体的整体的厚度难以减薄。

在以往的方法中，突出部比辐射阻止体更突出，因此，突出部的长度必须构成得比辐射阻止体的厚度更大。为此，成为蒸发了的蒸镀材料的通过路径的突出部的总长较长。为此，越是长的突出部，向周围的辐射所产生的散热越多，在孔的内部容易产生蒸镀材料的析出，容易在突出部(特别是前端部附近的区域)产生堵塞。

发明内容

因此，本发明的目的在于隔断坩埚的辐射热，而且不在喷嘴产生堵塞。

为了解决以上的课题，本发明的第1蒸发源的特征在于：具有喷射部、隔热单元以及防镀单元，该喷射部设在对蒸镀材料进行加热而使其蒸发的蒸发单元上，朝被蒸镀体喷射蒸发了的上述蒸镀材料；该隔热单元具有并列地配置的多个金属板，将该金属板中的最接近上述被蒸镀体的金属板设置在比上述喷射部的前端面更接近上述被蒸镀体的位置；该防镀单元与构成上述隔热单元的多个金属板中的一部分一体地构成，将上述喷射部与上述隔热单元之间闭塞。