[发明专利]一种蒙脱石及其制剂杂质的测定方法

权利要求书

1.一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取蒙脱石或其制剂加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，取离心管底部沉淀物干燥、称重，计算杂质含量；取杂质进行杂质种类的鉴别。

2.根据权利要求1所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取药用蒙脱石或其制剂加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，取离心管底部沉淀物加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，反复多次，直至上部液体澄清，离心管底部沉淀，水洗，干燥、称重，计算杂质含量。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取1-10g蒙脱石或其制剂，加4倍蒙脱石或其制剂重量的水，振摇，使其分散，加入20-100倍蒙脱石或其制剂重量的碱性分散剂水溶液，超声处理5-20分钟，转移至离心管中，离心5-20分钟，去除上部混悬液，加入20-100倍蒙脱石或其制剂重量的碱性分散剂水溶液，振摇，使沉淀分散均匀，离心，重复操作2-3次，至沉淀上部液体澄清，将沉淀用水转移至已恒重的蒸发皿中，蒸干，干燥至恒重，计算杂质的含量。

4.根据权利要求1所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取药用蒙脱石或其制剂先加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，取离心管底部沉淀，干燥、称重，计算杂质含量。

5.根据权利要求1所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取药用蒙脱石或其制剂先加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，取离心管底部沉淀，干燥、称重，计算杂质含量；杂质作粉晶X射线衍射图谱、根据X射线衍射的特征峰,判断试样中存在的矿物种类；用偏光显微镜法、相差显微镜法、扫描电镜法或透射电镜法中的一种方法确认杂质的晶体形态。

6.根据权利要求1或权利要求5所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：取药用蒙脱石或其制剂先加水摇匀，加入弱碱性分散剂，超声波分散，用离心机离心，取离心管底部沉淀，干燥、称重，计算杂质含量；杂质或作粉晶X射线衍射图谱、根据X射线衍射的特征峰,判断试样中存在的矿物种类；或杂质用偏光显微镜法、相差显微镜法、扫描电镜法或透射电镜法中的一种方法确认杂质的晶体形态。

7.根据权利要求1或权利要求2或权利要求3或权利要求4或权利要求5所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：离心机转子转速根据离心机转子半径调整，离心机转子半径大，转子转速相应小，转子转子半径小，转子转速相应大，转子转速调至蒙脱石微粒悬浮，杂质颗粒能沉降至离心管底部。

8.根据权利要求1或权利要求2或权利要求3或权利要求4或权利要求5所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：离心机转子转速根据离心机转子半径调整，离心机转子半径大，转子转速相应小，转子转子半径小，转子转速相应大，转子转速调至通过离心机分离后的蒙脱石和杂质，经X- 射线衍射图谱分析，杂质中不含蒙脱石特征峰，蒙脱石中不含杂质峰。

9.根据权利要求1或权利要求2或权利要求3或权利要求4或权利要求5所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：使用XCYZ-13型电动离心机，转子转速400-1200转/分。

10.根据权利要求1或权利要求2或权利要求3或权利要求4或权利要求5或权利要求7或权利要求8所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：使用不同转子半径的离心机，调整至与XCYZ-13电动离心机相同的离心加速度的转速，可获得同样的效果。

11.根据权利要求1或权利要求2或权利要求3或权利要求4或权利要求5或权利要求6所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：分散剂包括并不限于碳酸氢钠、碳酸钠、焦磷酸钠、六偏磷酸钠、硼酸钠、醋酸钠、硫酸钠、铵盐、草酸铵等，其中使用硫酸钠、铵盐时，用碱性物调溶液至弱碱性。

12.根据权利要求1或权利要求11所述的一种测定蒙脱石及其制剂杂质的测定方法，其特征在于：分散剂先配成重量百分比浓度是0.1%-2%的水溶液，优选0.2%-1%的水溶液，也可以直接加入碱性分散剂，加入量与使用碱性分散剂水溶液中所含的碱性分散剂量相当。