[发明专利]功率半导体模块及制造功率半导体模块的方法无效
申请号: | 201210046920.8 | 申请日: | 2012-02-17 |
公开(公告)号: | CN102646667A | 公开(公告)日: | 2012-08-22 |
发明(设计)人: | 柳春雷;N·舒尔茨;S·基辛 | 申请(专利权)人: | ABB研究有限公司 |
主分类号: | H01L23/62 | 分类号: | H01L23/62;H01L23/488;H01L23/051;H01L25/07;H01L21/50 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 汤春龙;朱海煜 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 功率 半导体 模块 制造 方法 | ||
1.一种功率半导体模块,包括半导体器件(12),尤其是绝缘栅双极晶体管、反向导电绝缘栅双极晶体管或者双模绝缘栅晶体管,其具有发射电极和集电极,其中导电上层(14)通过烧结接合连接到发射电极,所述上层(14)的材料至少部分地能够与所述半导体器件(12)的材料形成共晶体,并且所述上层(14)至少部分地具有如下热膨胀系数:该热膨胀系数与所述半导体器件的热膨胀系数相差的范围是≤250%、尤其是≤50%,以及其中导电基板(20)通过另一个烧结接合连接到所述集电极,以及其中所述功率半导体模块(10)还包括与所述基板(20)电绝缘并且经由直接电连接(22)连接到所述上层(14)的导电区(24)。
2.如权利要求1所述的功率半导体模块,其中,所述上层(14)包括至少两个子层,其中下子层(16)能够与所述半导体器件(12)的半导体形成共晶体,并且其中上子层(18)具有如下热膨胀系数:该热膨胀系数与所述半导体的热膨胀系数相差的范围是≤250%、尤其是≤50%。
3.如权利要求2所述的功率半导体模块,其中,所述下子层(16)包括铝、银、金或铜,和/或其中所述上子层(18)包括钼,和/或其中所述下子层(18)的厚度至少为所述半导体组件(12)的厚度的50%。
4.如权利要求1所述的功率半导体模块,其中,所述上层(14)包括合成材料,尤其是铝-石墨合成物或者铝-钼-铝叠层。
5.如权利要求1至4中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述上层(14)的厚度至少为所述半导体器件(12)的厚度的50%,和/或具有至少0.05mm、更优选地为至少0.2mm以及最优选地为至少0.3mm的厚度。
6.如权利要求1至4中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述基板(20)至少部分地具有如下热膨胀系数:该热膨胀系数与所述半导体的热膨胀系数相差的范围是≤250%、尤其是≤50%。
7.如权利要求5所述的功率半导体模块,其中,所述基板(20)包括铜、钼、铜-钼或者铝-石墨。
8.如权利要求1至6中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述导电区(24)形成为直接接合铜衬底或者活性金属铜衬底。
9.如权利要求1至7中的任一项所述的功率半导体模块,其中,将至少两个半导体器件(12)烧结到一个基板(20),其发射电极连接到一个导电区(24)。
10.如权利要求1至8中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述导电区(24)和/或所述上层(14)和/或所述基板通过接触活塞来接触。
11.如权利要求1至9中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述导电区(24)通过外部端子来接触,并且所述基板(20)通过外部端子来接触。
12.如权利要求1至10中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述电连接(22)通过钎焊或焊接或烧结来接合。
13.如权利要求1至11中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述基板(20)是导电的,并且优选地在所述功率半导体(12)的相对侧上具有接触表面,所述接触表面与所述烧结接合直接电接触。
14.如权利要求1至12中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述半导体器件(12)和所述导电区(24)设置在所述基板(20)的同一侧。
15.如权利要求1至13中的任一项所述的功率半导体模块,其中,所述半导体模块提供短路故障模式能力。
16.一种制造功率半导体模块(10)的方法,包括:
-提供半导体器件(12),尤其是绝缘栅双极晶体管、反向导电绝缘栅双极晶体管或者双模绝缘栅晶体管,其具有发射电极和集电极,
-将导电上层(14)烧结到所述发射电极,所述上层(14)至少部分地能够与所述半导体器件(12)的半导体形成共晶体,并且至少部分地具有如下热膨胀系数:该热膨胀系数与所述半导体的热膨胀系数相差的范围是≤250%、尤其是≤50%,
-将导电基板(20)烧结到所述集电极,
-在所述基板(20)上提供导电区(24),使得所述导电区(24)与所述基板(20)电绝缘,并且经由直接电连接(22)连接到所述上层(14)。
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