[发明专利]一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺

说明书

技术领域

本发明涉及一种溅射镀膜玻璃的制造方法，尤其涉及一种具有高透过率、低辐射的镀膜玻璃的制造工艺。

背景技术

目前，企业中为了降低镀膜产品的辐射率和遮阳系数，一般采用通过增加功能层的厚度的方法来实现，但功能层厚度的增加会造成玻璃的透过率下降；而为了增加镀膜产品的透过率，一般采用减少金属阻挡层的厚度来实现，因此产品的加工性能也会有所降低。

发明内容

本发明提供一种具有高透过率、低辐射且耐加工性能高的镀膜玻璃的制造工艺，有效地解决现有镀膜玻璃透过率低以及加工性能低的问题。

为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：

一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，包括一玻璃基材，步骤一，对所述玻璃基材进行清洗和干燥；步骤二，对经过清洗和干燥的所述玻璃基材进行第一次预真空过渡；步骤三，在所述玻璃基材上依次镀膜一层氮化硅介电层和一层氧化锌介电层；步骤四，在镀有两介电层的所述玻璃基材上镀膜一层作为对红外线区和/或太阳辐射光区具有反射性能的银的功能层；步骤五，在具有所述功能层的所述玻璃基材上继续镀膜一层镍铬合金靶的金属合金层；步骤六，在镀有所述金属合金层的所述玻璃基材上再镀膜两层复合介电层，并且依次对一氧化锌锡锑层和一氮化硅层进行沉积；步骤七，对所述玻璃基材进行第二次的预真空过渡；步骤八，对所述玻璃基材进行成品检测。

上述的高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，所述氮化硅介电层在氮气与氩气量之比为1:1.2至1.5以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至50KW之间，沉积膜层厚度为16nm至30nm之间。

上述的高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，所述氧化锌介电层在氧气与氩气量之比为1.2至1.5:1以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至3.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至50KW之间，沉积膜层厚度为16nm至30nm之间。

上述的高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，采用银的所述功能层的工艺气体为氩气，在真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率范围为1KW至6KW之间，沉积膜层厚度为8nm至15nm之间。

一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，所述镍铬合金靶金属合金层的工艺气体为氩气，同时通入适量氧气，氧气量与溅射功率之比为10至15:1之间，真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率范围为1.5KW至15KW之间，沉积膜层厚度为0.2nm至10nm之间。

上述的高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，所述氧化锌锡锑复合层在氧气与氩气之比为1.2至2：1之间以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且沉积膜层厚度为16nm至50nm之间。

上述的高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，所述氮化硅复合层在氮气与氩气量之比为1：1.2至1.5之间以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至35KW之间，膜层厚度为15nm至40nm之间。

本发明由于采用了上述技术，使之具有的积极效果是：

（1）通过离线磁控溅射技术，在玻璃基材表面镀上对红外区域高反射，对近、远红外低吸收的多层膜层结构，其中至少包括一层可对太阳辐射起作用的银的功能层，其具有灵活调节透过、吸收和反射量的特征，有效地降低玻璃的辐射率，提高玻璃热阻，同时可达到需要的颜色和遮阳系数。

（2）有效地提高玻璃基材面的可见光的透过率。

（3）有效地提高光热选择性。

附图说明

图1是本发明的一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺的示意图。

具体实施方式

以下结合附图给出本发明一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺的具体实施方式。