[发明专利]一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺

权利要求书

1.一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，包括一玻璃基材，步骤一，对所述玻璃基材进行清洗和干燥；步骤二，对经过清洗和干燥的所述玻璃基材进行第一次预真空过渡；步骤三，在所述玻璃基材上依次镀膜一层氮化硅介电层和一层氧化锌介电层；步骤四，在镀有两介电层的所述玻璃基材上镀膜一层作为对红外线区和/或太阳辐射光区具有反射性能的银的功能层；步骤五，在具有所述功能层的所述玻璃基材上继续镀膜一层镍铬合金靶的金属合金层；步骤六，在镀有所述金属合金层的所述玻璃基材上再镀膜两层复合介电层，并且依次对一氧化锌锡锑层和一氮化硅层沉积；步骤七，对所述玻璃基材进行第二次的预真空过渡；步骤八，对所述玻璃基材进行成品检测。

2.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，所述氮化硅介电层在氮气与氩气量之比为1:1.2至1.5以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至50KW之间，沉积膜层厚度为16nm至30nm之间。

3.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，所述氧化锌介电层在氧气与氩气量之比为1.2至1.5:1以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至3.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至50KW之间，沉积膜层厚度为16nm至30nm之间。

4.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，采用银的所述功能层的工艺气体为氩气，在真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率范围为1KW至6KW之间，沉积膜层厚度为8nm至15nm之间。

5.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，所述镍铬合金靶金属合金层的工艺气体为氩气，同时通入适量氧气，氧气量与溅射功率之比为10至15:1之间，真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率范围为1.5KW至15KW之间，沉积膜层厚度为0.2nm至10nm之间。

6.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，所述氧化锌锡锑复合层在氧气与氩气之比为1.2至2：1之间以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且沉积膜层厚度为16nm至50nm之间。

7.根据权利要求1所述高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，所述氮化硅复合层在氮气与氩气量之比为1：1.2至1.5之间以及真空溅射气压为2.0E-3mbar至6.0E-3mbar之间进行沉积，并且功率为15KW至35KW之间，膜层厚度为15nm至40nm之间。