[发明专利]清洗系统、清洗装置及使用清洗装置的方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗装置，特别涉及一种提供给工艺设备(制程设备)使用的清洗装置，其中前述的工艺设备还使用一工艺用液体。

背景技术

传统的工艺设备，例如旋转涂布设备，通常包含许多引导工艺用流体的管路。图1表示一个与排液管P2及排出管P1连接的公知的旋转涂布设备C，在如光微影工艺的半导体工艺中，可将一基板S装设于旋转涂布设备C的夹盘上。如图1中的箭号A1、A2所示，当基板S开始转动时，含有光阻剂和清洗剂(例如光阻稀释剂)的流体会被冲离基板S的表面，并经由排出管P1排出旋转涂布设备C。

一般来说，排液管P2可经由管夹装置P12而与旋转涂布设备C的排出管P1相连。然而，由于排液管P2很长，光阻剂往往会在管内结晶及沉淀，如此将容易造成排液管P2在图1中的区域R1的阻塞。在排液管P2内剩余的液体随后流入排泄槽T，并经由一弯管P3排入管路设备系统。然而，光阻剂仍可能在弯管P3内产生结晶及沉淀，进而造成弯管P3在区域R2的阻塞。

有鉴于此，本发明针对工艺设备提供了一种清洗装置，以改善前述管路内所产生的阻塞问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洗装置，包括一上层部、一中层部以及一底层部。前述上层部具有一第一开口，前述中层部连接上层部，并具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中入口设置于中层部的一侧边，环状通道与入口相连通，且第二开口与第一开口相连通。前述底层部连接中层部，并具有一贮液池以及一第三开口，其中第三开口与第二开口以及贮液池相连通。

在一实施例中，前述中层部还具有多个通孔，其中所述通孔连接环状通道，通孔彼此分开，且环状通道的宽度大于每个通孔的直径。前述贮液池具有一基座以及形成于基座上的环状坝体，其中环状坝体形成一与第三开口相连通的开孔，且环状坝体具有一倾斜面，该倾斜面环绕开孔。前述的上层部、中层部以及底层部可通过焊接或黏合方式相连。

本发明还提出一种清洗系统，包括一上层部、一中层部、一下层部、一贮液池，一阀体以及一控制器。前述上层部具有一第一开口，前述中层部连接上层部，并具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中入口设置于中层部的一侧边，环状通道与入口相连通，且第二开口与第一开口相连通。前述底层部连接中层部，并具有一贮液池以及一第三开口，其中第三开口与第二开口以及贮液池相连通。前述阀体连接溶剂槽以及中层部的入口，前述控制器连接阀体。

此外，前述清洗系统还具有一流量计，其中流量计与溶剂槽相连。

本发明还提出一种使用清洗装置的方法，包括以下步骤。装配清洗装置至一工艺设备中。当工艺设备中的一工艺用液体开始供给时，工艺设备传送一第一信号至一控制器。由控制器传送一第二信号以开启一阀体。从一溶剂槽引导一溶剂通过阀体至清洗装置。

在一实施例中，前述方法还包括以下步骤。当工艺用液体开始供给时，将溶剂浸润一排液管，其中排液管连接清洗装置。引导溶剂经过多个通孔至一贮液池。当溶剂超过贮液池的容量时，引导多余的溶剂经由一倾斜面至一排液管。借助溶剂可间歇地清洗一排液管。借助溶剂所挥发的溶剂蒸气浸润清洗装置以及工艺设备的一排出管。溶剂包括一光阻稀释剂或者一稀释剂。提供一流量计，用以监测溶剂的流量，且可调整流量计以控制溶剂的流量。

附图说明

图1表示一公知管夹装置的示意图，其中该管夹装置连接一工艺设备(例如旋转涂布设备)的排出管以及排液管；

图2表示本发明的一实施例的清洗装置的示意图，其中该清洗装置连接一旋转涂布设备的排出管以及排液管；

图3表示本发明的一实施例的清洗装置剖视图；

图4表示图3中的上层部的剖视图以及俯视图；

图5表示图3中的中层部的剖视图以及俯视图；

图6表示图3中的底层部的剖视图以及俯视图；

图7表示本发明的一实施例的清洗装置设置于一清洗系统的示意图；

图8表示本发明的一实施例的溶剂向下流动并清洗排液管以及弯管的示意图；以及

图9表示本发明的一实施例的溶剂在一清洗装置内产生溶剂蒸气的示意图。

其中，附图标记说明如下：

清洗系统～1；

清洗装置～100；

上层部～10；

第一开口～101；

中层部～20；

侧边～20a；

控制器～200；

第二开口～201；

入口～21；

环状通道～22；

通孔～23；

底层部～30；