[发明专利]清洗系统、清洗装置及使用清洗装置的方法

权利要求书

1.一种清洗装置，包括：

一上层部，具有一第一开口；

一中层部，连接该上层部，具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中该入口设置于该中层部的一侧边，该环状通道与该入口相连通，且该第二开口与该第一开口相连通；以及

一底层部，连接该中层部，具有一贮液池以及一第三开口，其中该第三开口与该第二开口以及该贮液池相连通。

2.如权利要求1所述的清洗装置，其中该中层部还具有多个通孔，所述通孔彼此分开并与该环状通道相连通，且该环状通道的宽度大于所述通孔的直径。

3.如权利要求1所述的清洗装置，其中该贮液池具有一底座以及一环状坝体，该环状坝体设置于该底座，且该环状坝体具有一开孔，该开孔与该第三开口相连通，该环状坝体还形成有一倾斜面，且该倾斜面环绕该开孔。

4.如权利要求1所述的清洗装置，其中该上层部、该中层部以及该底层部可通过焊接或黏合方式相连。

5.一种清洗系统，包括：

一上层部，具有一第一开口；

一中层部，连接该上层部，具有一入口、一环状通道以及一第二开口，其中该入口设置于该中层部的一侧边，该环状通道与该入口相连通，且该第二开口与该第一开口相连通；

一底层部，连接该中层部，具有一贮液池以及一第三开口，其中该第三开口与该第二开口以及该贮液池相连通；

一溶剂槽；

一阀体，连接该溶剂槽以及该中层部的该入口；

一控制器，连接该阀体；以及

一流量计，该流量计与该溶剂槽相连。

6.一种使用清洗装置的方法，包括：

装配该清洗装置至一工艺设备中；

当该工艺设备中的一工艺用液体开始供给时，该工艺设备传送一第一信号至一控制器；

由该控制器传送一第二信号以开启一阀体；以及

从一溶剂槽引导一溶剂通过该阀体至该清洗装置。

7.如权利要求6所述的使用清洗装置的方法，还包括：

当该工艺用液体开始供给时，将该溶剂浸润一排液管，其中该排液管连接该清洗装置；

由该溶剂间歇地清洗该排液管；以及

由该溶剂所挥发的溶剂蒸气浸润该清洗装置以及该工艺设备的一排出管。

8.如权利要求6所述的使用清洗装置的方法，其中该溶剂包括一光阻稀释剂或者一稀释剂。

9.如权利要求6所述的使用清洗装置的方法，还包括：

提供一流量计，用以监测该溶剂的流量；以及

调整该流量计以控制该溶剂的流量。

10.如权利要求6所述的使用清洗装置的方法，还包括：

引导该溶剂经过多个通孔至一贮液池；以及

当该溶剂超过该贮液池的容量时，引导多余的该溶剂经由一倾斜面至一排液管，其中该排液管连接至该清洗装置。