[发明专利]用于晶片薄化的载具及其制法有效
申请号: | 201210041064.7 | 申请日: | 2012-02-21 |
公开(公告)号: | CN103258764A | 公开(公告)日: | 2013-08-21 |
发明(设计)人: | 陈明志;谢昌宏;胡迪群 | 申请(专利权)人: | 欣兴电子股份有限公司;苏州群策科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 晶片 及其 制法 | ||
1.一种用于晶片薄化的载具,其包括:
板体,其一表面上形成有图案化凹部,该图案化凹部包括圆形子凹部及环绕该圆形子凹部的环形子凹部;以及
嵌埋材料,其充填于该图案化凹部中,其中,该嵌埋材料为疏水性材料。
2.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该图案化凹部还包括连接该圆形子凹部与环形子凹部的条形子凹部,且该嵌埋材料还充填于该条形子凹部中。
3.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该圆形子凹部共圆心于该环形子凹部。
4.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该嵌埋材料的材质为铁氟龙。
5.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该板体的材质为玻璃或硅。
6.一种用于晶片薄化的载具的制法,其包括:
于板体的一表面上形成图案化凹部,该图案化凹部包括圆形子凹部及环绕该圆形子凹部的环形子凹部;以及
于该圆形子凹部中充填嵌埋材料。
7.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,形成该图案化凹部的步骤包括:
于该板体的表面上形成阻层,该阻层具有外露该板体的图案化开口区;
移除该图案化开口区中的部分该板体材料,以形成该图案化凹部;以及
移除该阻层。
8.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该图案化凹部还包括连接该圆形子凹部与环形子凹部的条形子凹部,且还于该环形子凹部与条形子凹部中充填该嵌埋材料。
9.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该圆形子凹部共圆心于该环形子凹部。
10.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该嵌埋材料的材质为铁氟龙。
11.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,形成该图案化凹部的方式为喷砂或蚀刻。
12.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该板体的材质为玻璃或硅。
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