[发明专利]用于晶片薄化的载具及其制法有效

专利信息
申请号: 201210041064.7 申请日: 2012-02-21
公开(公告)号: CN103258764A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 陈明志;谢昌宏;胡迪群 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司;苏州群策科技有限公司
主分类号: H01L21/673 分类号: H01L21/673
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 用于 晶片 及其 制法
【权利要求书】:

1.一种用于晶片薄化的载具,其包括:

板体,其一表面上形成有图案化凹部,该图案化凹部包括圆形子凹部及环绕该圆形子凹部的环形子凹部;以及

嵌埋材料,其充填于该图案化凹部中,其中,该嵌埋材料为疏水性材料。

2.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该图案化凹部还包括连接该圆形子凹部与环形子凹部的条形子凹部,且该嵌埋材料还充填于该条形子凹部中。

3.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该圆形子凹部共圆心于该环形子凹部。

4.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该嵌埋材料的材质为铁氟龙。

5.根据权利要求1所述的用于晶片薄化的载具,其特征在于,该板体的材质为玻璃或硅。

6.一种用于晶片薄化的载具的制法,其包括:

于板体的一表面上形成图案化凹部,该图案化凹部包括圆形子凹部及环绕该圆形子凹部的环形子凹部;以及

于该圆形子凹部中充填嵌埋材料。

7.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,形成该图案化凹部的步骤包括:

于该板体的表面上形成阻层,该阻层具有外露该板体的图案化开口区;

移除该图案化开口区中的部分该板体材料,以形成该图案化凹部;以及

移除该阻层。

8.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该图案化凹部还包括连接该圆形子凹部与环形子凹部的条形子凹部,且还于该环形子凹部与条形子凹部中充填该嵌埋材料。

9.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该圆形子凹部共圆心于该环形子凹部。

10.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该嵌埋材料的材质为铁氟龙。

11.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,形成该图案化凹部的方式为喷砂或蚀刻。

12.根据权利要求6所述的用于晶片薄化的载具的制法,其特征在于,该板体的材质为玻璃或硅。

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