[发明专利]成膜装置及成膜基板制造方法

权利要求书

1.一种成膜装置，其在基板上进行成膜材料的成膜，其特征在于，具备：

腔室，导入有所述基板；

加热构件，在所述腔室内加热所述基板；

旋转自如的传送辊，设置在所述腔室内，与所述基板接触并传送所述基板；及

控制构件，以正旋转与逆旋转方式切换所述传送辊的旋转，使所述基板在基于所述加热构件加热时往返移动。

2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，

所述加热构件具有向与所述基板的传送方向交叉的方向延伸并在所述传送方向上隔开预定的间隔配置的多个加热器。

3.如权利要求2所述的成膜装置，其特征在于，

所述控制构件使所述基板往返移动相当于所述加热器的配置间隔的60％～100％的距离的量。

4.一种成膜装置，其在基板上进行成膜材料的成膜，其特征在于，具备：

冷却构件，冷却所述基板；

旋转自如的传送辊，与所述基板接触并传送所述基板；及

控制构件，以正旋转与逆旋转方式切换所述传送辊的旋转，使所述基板在基于所述冷却构件冷却时往返移动。

5.如权利要求4所述的成膜装置，其特征在于，

所述控制构件使所述传送辊旋转360度之后，逆向旋转360度。

6.一种成膜装置，其在基板上进行成膜材料的成膜，其特征在于，具备：

腔室，导入有所述基板；

加热构件，在所述腔室内加热所述基板；

旋转自如的第1传送辊，设置在所述腔室内，与所述基板接触并传送所述基板；

加热传送控制构件，以正旋转与逆旋转方式切换所述第1传送辊的旋转，使所述基板在基于所述加热构件加热时往返移动；

冷却构件，冷却所述基板；

旋转自如的第2传送辊，与所述基板接触并传送所述基板；及

冷却传送控制构件，以正旋转与逆旋转方式切换所述第2传送辊的旋转，使所述基板在基于所述冷却构件冷却时往返移动。

7.一种成膜基板制造方法，其为制造成膜材料成膜于基板上而得到的成膜基板的方法，其特征在于，具备：

加热工序，在导入有所述基板的腔室内加热所述基板；及

传送工序，利用设置在所述腔室内且与所述基板接触的旋转自如的传送辊传送所述基板，

所述传送工序中，在基于所述加热工序加热时，以正旋转与逆旋转方式切换所述传送辊的旋转而使所述基板往返移动。

8.如权利要求7所述的成膜基板制造方法，其特征在于，

所述加热工序中，利用向与所述基板的传送方向交叉的方向延伸并在所述传送方向上隔开预定的间隔配置的多个加热器，对所述基板进行加热。

9.如权利要求8所述的成膜基板制造方法，其特征在于，

所述传送工序中，使所述基板往返移动相当于所述加热器的配置间隔的60％～100％的距离的量。

10.一种成膜基板制造方法，其为制造成膜材料成膜于基板上而得到的成膜基板的方法，其特征在于，具备：

冷却工序，冷却所述基板；及

传送工序，利用与所述基板接触的旋转自如的传送辊传送所述基板，

所述传送工序中，在基于所述冷却工序冷却时，以正旋转与逆旋转方式切换所述传送辊的旋转而使所述基板往返移动。

11.如权利要求10所述的成膜基板制造方法，其特征在于，

所述传送工序中，使所述传送辊旋转360度之后，逆向旋转360度。

12.一种成膜基板制造方法，其为制造成膜材料成膜于基板上而得到的成膜基板的方法，其特征在于，具备：

加热工序，在导入有所述基板的腔室内加热所述基板；

第1传送工序，利用设置在所述腔室内且与所述基板接触的旋转自如的第1传送辊传送所述基板；

冷却工序，冷却所述基板；及

第2传送工序，利用与所述基板接触的旋转自如的第2传送辊传送所述基板，

所述第1传送工序中，在基于所述加热工序加热时，以正旋转与逆旋转方式切换所述第1传送辊的旋转而使所述基板往返移动，

所述第2传送工序中，在基于所述冷却工序冷却时，以正旋转与逆旋转方式切换所述第2传送辊的旋转而使所述基板往返移动。