[发明专利]表面保护片无效

专利信息
申请号: 201210036216.4 申请日: 2012-02-15
公开(公告)号: CN103254817A 公开(公告)日: 2013-08-21
发明(设计)人: 生岛伸祐;山户二郎;武田公平 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02;C09J153/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 雒运朴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 保护
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种表面保护片。详细来说,本发明涉及包含基材层和粘合层的表面保护片。本发明的表面保护片可用于如下用途,例如,在对金属板、涂装板、铝窗框、树脂板、装饰钢板、氯乙烯层压钢板、玻璃板等部件、偏振膜、液晶面板等光学部件、电子部件等进行搬运、加工或者保养时等,粘贴在这些部件表面而进行保护等。

背景技术

就表面保护片而言,通常在基材层的一侧设有粘合层。作为制造包含这样的基材层和粘合层的表面保护片的方法,提出了利用共挤出成形将基材层和粘合层形成为一体的方法(例如,参照专利文献1)。

但是,现有的表面保护片在粘贴于被粘附体的状态下的弯曲加工性差。因此,在对粘贴了现有的表面保护片的被粘附体进行弯曲加工时,存在该表面保护片断裂,或产生SUS损伤这样的问题。

现有技术文献

专利文献1:日本特开昭61-103975号公报

发明内容

本发明的课题在于,提供一种包含基材层和粘合层的、粘贴于被粘附体状态下的弯曲加工性优异的表面保护片。

本发明的表面保护片为包含基材层和粘合层的表面保护片,该基材层的厚度为50μm以上,断裂伸长率为400%以上,上屈服点为15N/20mm以下,100%伸长时的拉伸强度为18N/20mm以下,200%伸长时的拉伸强度为20N/20mm以下。

在优选的实施方式中,所述基材层和所述粘合层利用共挤出成形而形成为一体。

在优选的实施方式中,所述基材层包含聚烯烃系树脂作为主要成分。

在优选的实施方式中,所述基材层由最外基材层A和中间基材层B构成,在该中间基材层B侧可配置所述粘合层。

在优选的实施方式中,所述最外基材层A包含聚乙烯系树脂作为主要成分。

在优选的实施方式中,所述聚乙烯系树脂包含低密度聚乙烯。

在优选的实施方式中,所述中间基材层B包含聚乙烯系树脂作为主要成分。

在优选的实施方式中,所述聚乙烯系树脂包含低密度聚乙烯。

在优选的实施方式中,所述聚乙烯系树脂包含直链状低密度聚乙烯。

在优选的实施方式中,所述直链状低密度聚乙烯的密度为0.880g/cm3~0.910g/cm3

在优选的实施方式中,所述中间基材层B中的所述直链状低密度聚乙烯的含有比例为30重量%~5重量%。

在优选的实施方式中,所述粘合层包含苯乙烯系热塑性弹性体。

根据本发明,可以提供一种包含基材层和粘合层的、粘贴于被粘附体状态下的弯曲加工性优异的表面保护片。

附图说明

图1为表示本发明的表面保护片的一个构成例的剖面示意图。

附图标记说明

100表面保护片

10粘合层

20基材层

21最外基材层A

22中间基材层B

具体实施方式

本发明的表面保护片为包含基材层和粘合层的表面保护片。对本发明的表面保护片而言,在不损害本发明的效果的范围内,也可以包含任意的适当的其它层。

基材层的厚度为50μm以上,优选为50μm~300μm,更优选为50μm~250μm,进一步优选为50μm~200μm,特别优选为50μm~150μm,最优选为50μm~100μm。如果基材层的厚度在上述范围内,则在对粘贴了本发明的表面保护片的被粘附体进行弯曲加工时,该表面保护片不容易断裂,不容易产生SUS伤,另外,可以抑制基材层的硬度变大,因此,将本发明的表面保护片粘贴于被粘附体之后,不容易产生浮动等。

粘合层的厚度优选为1μm~50μm,更优选为2μm~40μm,进一步优选为3μm~30μm,特别优选为4μm~20μm,最优选为5μm~10μm。通过将粘合层的厚度在上述范围内,在利用共挤出成形制造本发明的表面保护片时容易控制层构成,另外,可以得到具有充分的机械强度的表面保护片。

本发明的表面保护片的整体厚度优选为51μm~150μm,更优选为53μm~140μm,进一步优选为55μm~130μm,特别优选为57μm~120μm,最优选为60μm~110μm。通过将本发明的表面保护片的整体厚度在上述范围内,可以得到处理性优异且具有充分的机械强度的表面保护片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210036216.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top