[发明专利]一种用于抬升衬底的顶杆组件

说明书

技术领域

本发明涉及太阳能电池制造设备领域，特别涉及一种晶片承载装置的用于抬升衬底的顶杆组件。

背景技术

在现代电子产品生产工艺，如集成电路(IC)制备、光伏(太阳能)设备或太阳能电池制备工艺中，大多采用薄膜镀层技术在基片表面生长不同薄膜层。所述薄膜镀层技术包括采用物理气相沉积、化学气相沉积、物理化学气相沉积等方法，从而在金属材料或工件表面获得的具有各种不同性能的薄膜层的工艺。

参考图1，薄膜镀层工艺中，在一镀层腔体100中，将温度、压力控制于一定条件下，待涂层的基片101放置在基片承载装置102的基座103上，由所述基座103热传导实现基片101均匀加热，并由基片101上方的气喷涂装置104放出反应气体，均匀地覆盖在基片101的表面，从而在基片101表层沉积形成一层均匀的薄膜镀层。就上述薄膜沉积技术，所述基片101上沉积的薄膜均匀性，直接关乎薄膜镀层的品质，而所述基座103上，基片101放置的平坦度直接关于基片各部分加热的均匀度，其对于基片101上方的薄膜沉积影响甚大。因而在薄膜镀层工艺装置设计中，贯穿所述基座103上下表面各部分均匀地设置多个通孔，并在其中安装多根结构尺寸相同的贯穿所述基座103的顶杆105，所述各根顶杆105上端托住所述基片101，而下端由驱动装置106托住，从而实现所述基片101各部分平稳地上下移动，并平稳地放置于所述基座103上。

然而在薄膜镀层实际操作工艺中，由于所述基座103上的通孔与所述顶杆105间存在间隙，使得顶杆105轴向移动过程中其上下两端的位置在通孔范围内会发生相对偏差，以致所述顶杆轴向位置发生倾斜，并由此使得所述各根顶杆105中间部分受到与所述基座103通孔周边的摩擦力，有时还会因所述基片101重力影响而不同程度受力。这种情况的出现不仅影响各顶杆105上下移动同步性，使所述基片101水平方向出现倾斜，影响所述基片101上下移动的顺畅度，并最终影响所述基片101位于基座103上放置的平稳度；更甚者所述顶杆105由中间受力点发生折断的可能，从而导致薄膜镀层工艺失败。

为此，公告号CN2482220Y的中国专利公开了一种晶片承载装置，将顶杆设置成上下两端粗，中间细的结构，并将顶杆105的重心移动到顶杆下端，从而确保顶杆自然下落，避免顶杆105出现中间受力情况。公开号US20110014396A1的美国专利申请，在所述顶杆105与所述基座103通孔的连结处采用特殊结构设置200(参考图2所示)。在通孔中装设顶杆105导向装置210，包括导向装置210的两侧开设的呈纵向的回路凹槽211，并在回路凹槽211中设置滚珠212。所述顶杆105插于所述导向装置210中，而所述滚珠212位于所述顶杆105两侧，从而减小了顶杆105上下移动时的摩擦力，并对所述顶杆105移动起导向作用，确保所述多根顶杆105的正常移动。同样还如中国专利CN165533613B提供的基材支撑衬套，在顶杆的周侧设置滚轮或是滚珠，从而对顶杆上下移动起导向作用。

上述专利文件公开的技术方案一定程度上缓解了顶杆105的上、下移动过程中，由于顶杆偏折以及所述基座103与顶杆105间摩擦力而引起的顶杆105移动障碍。然而上述三个专利文件公开的技术方案中，中国专利CN2482220Y依靠顶杆105重心的下移，无法根本克服顶杆105与基座103通孔间的摩擦力，以及顶杆105的偏向问题。而美国专利申请US20110014396A1结构复杂，制作难度高。不仅如此，由于薄膜镀层过程中，长时间的高压、高温反应可能导致顶杆105径向的局部变形，移动中，即使基于上述中国专利CN165533613B以及美国专利申请US20110014396A1专利公开技术方案，顶杆105在上下移动中，仍然会发生顶杆105轴向移动中的偏差，甚至出现移动搁置，影响顶杆的正常移动。

发明内容

本发明的目的是提供一种顶杆用于抬升衬底的顶杆组件，其克服了薄膜镀层工艺中，现有的晶片承载装置的顶杆由于轴向移动过程中发生偏斜、或是形变等原因而引起的不下落、偏折、甚至折断等问题，从而引导薄膜镀层过程中，顶杆顺畅、稳定轴向移动，由此提高薄膜镀层质量。

本发明提供的一种顶杆用于抬升衬底的顶杆组件，所述顶杆组件包括顶杆以及用于引导所述顶杆作轴向移动的导向装置；所述导向装置包括支架以及安装在所述支架上的多个导向机构，所述多个导向机构围绕所述顶杆设置，限制所述顶杆的位置，所述导向装置还包括调整机构，所述调整机构至少控制一个所述的导向机构，用于调整该导向机构沿所述顶杆径向与所述顶杆间的距离。