[发明专利]双面涂布装置无效
申请号: | 201210032483.4 | 申请日: | 2012-02-14 |
公开(公告)号: | CN102632017A | 公开(公告)日: | 2012-08-15 |
发明(设计)人: | 中畑政臣;植松育生;森岛秀明 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | B05C9/04 | 分类号: | B05C9/04;B05C13/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 胡建新 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 双面 装置 | ||
1.一种双面涂布装置,在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的上述涂布区域上涂布涂液,上述双面涂布装置包括:
传送机构,沿送出方向传送上述基材;
第1涂布头,配置于上述基材的一个面侧,使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液;
第2涂布头,配置于上述基材的另一个面侧,使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液;以及
涂布辊,配置于上述基材的一个面侧且与上述第2涂布头隔着上述基材相对置的位置附近,上述涂布辊具有:第1辊,设置于沿着轴向的两端部;第2辊,设置于上述第1辊之间;以及旋转机构,使上述第1辊及第2辊旋转,并且使上述第1辊的圆周速度大于上述第2辊的圆周速度。
2.根据权利要求1所述的双面涂布装置,其中,
在上述涂布辊中,上述第1辊形成为大径的圆柱,上述第2辊形成为小径的圆柱,上述旋转机构是将上述第1辊和上述第2辊一体且同轴连接的轴体。
3.根据权利要求1所述的双面涂布装置,其中,
在上述涂布辊中,上述第1辊形成为大径,上述第2辊形成为小径,上述旋转机构使上述第1辊和上述第2辊以同一转速旋转。
4.根据权利要求1所述的双面涂布装置,其中,
在上述涂布辊中,上述第1辊和上述第2辊形成为相同直径,上述旋转机构使上述第1辊的转速大于上述第2辊的转速。
5.根据权利要求1所述的双面涂布装置,其中,
在上述涂布辊中,上述第1辊形成为大径的圆锥台,上述第2辊形成为小径的圆锥台,上述旋转机构使上述第1辊和上述第2辊以同一转速旋转。
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B05C 一般对表面涂布液体或其他流体的装置
B05C9-00 把液体或其他流体涂于表面的装置或设备,所采用的方法未包含在B05C 1/00至B05C 7/00组,或表面涂布液体或其他流体的方法不是重要的
B05C9-02 .对表面涂布液体或其他流体采用B05C 1/00至B05C 7/00中未包含的一个方法,不论是否还使用其他的方法
B05C9-04 .对工件的相对面涂布液体或其他流体
B05C9-06 .对工件的同一个面要求涂布两种不同的液体或其他流体,或者用同一种液体或其他流体涂布二次
B05C9-08 .涂布液体或其他流体并完成辅助操作
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