[发明专利]一种1H-1,2,3-三唑类化合物的制备方法

权利要求书

1.一种式(I)所示的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，所述的制备方法为：将式(III)所示的卤代物与式(II)所示的端基炔类化合物以及叠氮化钠混合，于反应溶剂中在多孔铜的催化作用下于25～80℃反应5～85h，反应结束后，反应液后处理制得式(I)所示的1H-1，2，3-三唑类化合物；所述的溶剂为去离子水、乙腈、无水乙醇、甲苯、丙酮、N，N-二甲基甲酰胺、四氢呋喃或二氧六环；

式(I)、式(II)或式(III)中，X为卤素、OAc、OMs或OTf；R₁为C1至C13烷基、苄基、取代苄基或乙酸乙酯基，所述取代苄基苯环上的取代基为单取代卤素或单取代C1至C5烷基；R₂为C6至C13烷基、5元至9元环烯基、苯基、取代苯基或吡啶基，所述取代苯基的取代基为单取代C1至C5烷氧基或单取代卤素。

2.如权利要求1所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：X为Br、Cl或I；R₁为苄基、C1至C4烷基或乙酸乙酯基；R₂为苯基、对甲氧基苯基、对乙氧基苯基、对氯苯基、间氟苯基、4-吡啶基、1-环己烯基、邻苯二甲酰亚胺甲基或C6至C10烷基。

3.如权利要求1所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的反应溶剂为去离子水。

4.如权利要求1～3之一所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的多孔铜的孔径为5～150μm。

5.如权利要求4所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的多孔铜的孔径为5～20μm。

6.如权利要求5所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的多孔铜的孔径为5μm。

7.如权利要求1～3之一所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的卤代物与端基炔类化合物、叠氮化钠、多孔铜的物质的量之比为1∶1.0～1.2∶1.2～2∶0.05～0.15。

8.如权利要求6所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：所述的卤代物与端基炔类化合物、叠氮化钠、多孔铜的物质的量之比为1∶1.1∶2∶0.05，所述反应溶剂的体积用量以卤代物的摩尔数计为4ml/mmol。

9.如权利要求1～3之一所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：反应温度为55～60℃，反应时间为8～50h。

10.如权利要求8所述的1H-1，2，3-三唑类化合物的制备方法，其特征在于：反应温度为55～60℃，反应时间为8～50h。