[发明专利]质量分析方法以及质量分析装置

权利要求书

1.一种质量分析方法，其特征在于，包括：

将试样和已知浓度的标准物质在离子源进行离子化的工序；

将试样离子和标准物质离子导入离子陷阱的工序；

将上述试样离子和上述标准物质离子同时存储在上述离子陷阱的工序；

从上述离子陷阱质量选择性地排出上述标准物质离子并进行检测的工序；

在上述离子陷阱分离上述试样的前体离子的工序；

离解上述试样的前体离子而生成碎片离子的工序；

从上述离子陷阱质量选择性地排出上述碎片离子并进行检测的工序；以及

根据检测到的上述标准物质离子的强度和离解后的上述试样的碎片离子的强度计算上述试样的浓度的工序。

2.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

在将上述试样离子存储在上述离子陷阱的状态下，质量选择性地排出上述标准物质离子并进行检测，之后离解上述试样离子的上述前体离子。

3.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

具有使上述试样和上述标准物质气化的工序，气化后的上述试样和上述标准物质间歇地被导入上述离子源。

4.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

在上述离子陷阱中间歇地导入气体。

5.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

通过以上述标准物质离子共振的条件扫描施加在上述离子陷阱的高频电压的振幅或辅助交流电压的频率，从上述离子陷阱质量选择性地排出上述标准物质离子。

6.如权利要求5所述的质量分析方法，其特征在于，

在以上述标准物质离子共振的条件进行扫描的期间内，具有不包括与上述试样的上述前体离子共振的条件的期间。

7.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

具有将存储在上述离子陷阱内的上述试样和上述标准物质的前体离子分别分离并离解的工序，

从上述离子陷阱质量选择性地排出上述标准物质离子并进行检测的工序，用于检测上述标准物质的碎片离子，

根据离解后的上述标准物质的碎片离子的强度和离解后的上述试样的碎片离子的强度，对上述试样的浓度进行定量。

8.如权利要求1所述的质量分析方法，其特征在于，

使用用已知浓度的上述标准物质和上述试样取得的上述标准物质离子与上述试样的碎片离子的信号强度比、以及用各自的浓度决定的常数，对上述试样的浓度进行定量。

9.一种质量分析装置，其特征在于，具有：

将试样和已知浓度的标准物质进行离子化的离子源；

将在上述离子源生成的试样离子和标准物质离子同时存储，并质量选择性地排出的离子陷阱；

检测从上述离子陷阱排出的离子的检测器；

向上述离子源或上述离子陷阱导入离子的开关机构；以及

控制部，该控制部控制上述离子陷阱和上述开关机构，并根据上述标准物质的离子的信号强度和在上述离子陷阱中离解的上述试样的碎片离子的信号强度，计算试样的浓度。

10.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

上述控制部对上述离子陷阱以如下方式进行控制，即，在同时存储在上述离子源生成的试样离子和标准物质离子的状态下，从上述离子陷阱排出上述标准物质离子，之后将上述试样离子的前体离子分离并离解。

11.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

具有使上述试样和上述标准物质气化的气化部，上述开关机构设在上述气化部和上述离子源之间。

12.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

上述离子源具备：使从上述开关机构导入的气体流向上述离子陷阱的由电介质构成的流道；和设在上述流道上并且被施加交流电压的电极。

13.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

上述开关机构设在上述离子源和上述离子陷阱之间。

14.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

上述控制部保存用已知浓度的上述标准物质和上述试样取得的上述标准物质离子与离解后的上述试样的离子的信号强度比、以及用各自的浓度决定的常数，并用上述常数对上述试样的浓度进行定量。

15.如权利要求9所述的质量分析装置，其特征在于，

上述开关机构进行间歇的开关。