[发明专利]基板成膜检查装置无效

专利信息
申请号: 201210013362.5 申请日: 2012-01-13
公开(公告)号: CN103134806A 公开(公告)日: 2013-06-05
发明(设计)人: 李淳钟;禹奉周;朴炳澯 申请(专利权)人: 塞米西斯科株式会社
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88;G01B11/02;H01L21/67
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 韩明星
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基板成膜 检查 装置
【权利要求书】:

1.一种基板成膜检查装置,其特征在于,包括:

检查台;

照明模块,布置于所述检查台的下端,以用于当涂布有成膜的基板经过所述检查台时向所述基板照射光源;

相机模块,布置于所述照明模块的上端,以用于当从所述照明模块向基板照射光源时,拍摄所述基板的表面和横向部边缘以及纵向部边缘;以及

检查单元,控制所述照明模块和所述相机模块的动作,并从由所述相机模块拍摄的图像信息检查涂布于基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离是否分别为正常范围内的距离。

2.如权利要求1所述的基板成膜检查装置,其特征在于,所述相机模块为用于以行扫描方式对移动的基板的表面和横向部边缘以及纵向部边缘进行拍摄的行扫描相机。

3.如权利要求1所述的基板成膜检查装置,其特征在于,所述照明模块为氙气灯、卤素灯、高频荧光灯、发光二极管照明器中的任意一个。

4.如权利要求1所述的基板成膜检查装置,其特征在于,所述检查单元搭载有检查程序,该检查程序用于从由相机模块拍摄的图像信息计算出涂布于基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离之后,将其计算值与正常范围基准值进行比较计算,以检查是否正常或歪斜不良。

5.如权利要求4所述的基板成膜检查装置,其特征在于,所述检测单元内已储存有针对涂布于所述基板表面的成膜与基板的横向部边缘以及纵向部边缘的距离的正常范围基准值。

6.如权利要求5所述的基板成膜检查装置,其特征在于,涂布于所述基板表面的成膜与基板的横向部边缘的距离通过对从图像信息测定的成膜与横向部边缘之间的像素数乘以每像素的基准长度而算出,

涂布于所述基板表面的成膜与基板的纵向部边缘的距离通过对从图像信息测定的成膜与纵向部边缘之间的像素数乘以每像素的基准长度而算出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于塞米西斯科株式会社,未经塞米西斯科株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210013362.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top