[发明专利]掩模对位装置及其对位方法

说明书

 

技术领域

本发明涉及一种掩模对位装置及其对位方法，属于有机电致发光元件的制造领域。

 

背景技术

 有机电致发光元件（OLED）因其视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率高及自备发光等特点，备受关注，并被视为使下一代的平面显示器新兴应用技术。

在制造有机电致发光元件的真空蒸镀装置方面，在底部设置盛放有机材料的坩埚，在坩埚的外面设置使用有机材料加热、蒸发的加热器。在蒸镀装置中，设置与坩埚相对配置的夹头以及包夹玻璃基板的绝缘部件而使该基板安装保持在夹头的底面的基板夹具。掩模组件包括掩模板及掩模框架，夹头是用于维持玻璃基板为平面状的平板，在基板夹中设置升降机构，并在升降机构上设有夹具，通过夹具固定掩模框架，使其相对于基板的位置偏差控制在一定范围内，具有局限性。升降夹具，使掩模组件靠近基板。

而且在制造有机发光元件时，在基板上，每10um宽度的像素必须将红、绿、蓝的发光部并列，各像素的位置精度必须为±5um的程度；有由于蒸镀过程中，温度不断升高，受板材受热膨胀的影响，掩模组件会相对于基板产生位置偏差，因此对真空蒸镀装置掩模的位置精度要求很高。

掩模组件上蒸镀设备时是通过掩模板上的定位点与基板进行对位，由于掩模框架的位置调试范围存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得仅仅通过掩模板定位点与基板进行对位无法满足位置进度要求，必须保证掩模板与掩模框架的位置偏差也要控制在一定范围内。

而目前在蒸镀用掩模板的制造领域，掩模板的组装设备无法做到掩模板与掩模框架高效、高精度对位。

 

发明内容

本发明提供一种掩模对位装置及相关对位方法，能够使掩模板与掩模框架精确对位，并使其位置偏差控制在±15μm内。

针对以上问题，本发明提出以下方案：

一种掩模对位装置，用于对位掩模板和掩模框架，其特征在于：包括基台、销钉、拉动装置，所述掩模板、所述掩模框架、所述销钉和所述拉动装置均位于基台上，所述掩模板和所述掩模框架上分别具有对位孔，所述销钉可以通过所述拉动装置微调其位置。

所述掩模板上的对位孔形状与所述掩模框架上的对位孔形状相同、数量相等、大小相等。

优选的，所述对位孔可以是方孔、圆弧孔等形状，所述掩模板和所述掩模框架上的对位孔至少为两个。

所述基台的内边缘位于所述掩模框架的内边缘里侧。

所述销钉可以在所述掩模框架的外边框长度范围内的任意位置，所述销钉的个数至少为三个。

当所述掩模框架一边中的销钉为一个时，销钉位于掩模框架该边的中间位置。

当所述掩模框架一边中的销钉为两个时，两个销钉关于掩模框架该边的中点对称。

优选的，所述掩模框架外边框上至少有两条边有销钉。

一种掩模对位方法，其特征在于，使用上述掩模对位装置实现。

所述掩模对位方法，其特征在于，步骤包括：将掩模框架放于对位基台上，使其侧面与销钉相接触；将掩模板水平放置在掩模框架上，保证二者紧密贴合；通过CCD准确捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔；通过装置自带软件读出相对应的对位孔的最大偏差值；若差值超出±15μm，调整销钉；再次用CCD（Charge-coupled Device，电荷耦合元件）捕捉掩模板及掩模框架上的对位孔，读取两组对位孔之间相对偏差值；重复读取两组对位孔的偏差值，直至控制在±15μm。

本发明的对位装置及配套的对位方法能够使掩模板与掩模框架精确对位，并使其位置偏差控制在±15μm。

 

附图说明

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1掩模对位装置的结构示意图。

其中：1、2为掩模框架对位孔；3为掩模框架；4为对位基台；5、6、7均为销钉。

图2为掩模对位装置的俯视图。

图3为掩模板与掩模框架对位示意图。

其中：11为掩模板；12为掩模板开口；13、14为掩模板对位孔。

图4为对位孔的偏差示意图。

其中：13、14为掩模板对位孔；1、2为掩模框架对位孔；L为1与13的最大位置偏差，2与14的最大位置偏差与此相同。

图5为掩模对位方法的流程图。

 

具体实施方式

实施例