[发明专利]一种微影制作方法

说明书

 

技术领域

本发明属于太阳能电池技术领域，尤其涉及一种微影制作方法。

 

背景技术

微影工艺（lithography process）在如今的微电子工业中扮演着十分重要的角色，其主要包括贴膜、曝光（exposure）与显影（development）等步骤。

其中，贴膜过程是通过贴膜机把干膜贴到处理好的芯模上，为接下来的图形转移做准备。贴膜操作好能使干膜很好的粘附在芯模上，避免产生变形与气泡。曝光则是得到优良的干膜抗蚀图像非常重要的一个制作过程。当曝光不足时，由于单体聚合的不彻底，在显影过程中，胶膜溶涨变软，线条不清晰，色泽暗淡，甚至脱胶，在电镀前处理或电镀过程中，膜起翘、渗镀、甚至脱落。当曝光过头时，会造成难于显影，胶膜发脆、留下残胶等弊病。更为严重的是不正确的曝光将产生图像线宽的偏差，因此曝光掌握好对于生产出高品质产品是相当重要的。显影操作一般在显影机中进行，控制好显影液的温度，传送速度，喷淋压力等显影参数，能够得到好的显影效果。显影点太高，未聚合的抗蚀膜得不到充分的清洁显影，抗蚀剂的残余可能留在板面上。如果显影点抓得太低，已聚合的干膜由于与显影液过长时间的接触，可能被浸蚀而变得发毛，失去光泽，因此需要对显影点做一个很好的管控。

基于以上的分析，贴膜、曝光与显影就需要有一个很好的工艺范围。而对于不同的干膜所包含的化学组分与化学特性也是不同的，因此在贴膜、曝光与显影过程中的工艺参数也是不同的，所以需要提供一种技术方案，已解决该等问题。

 

发明内容

为解决上述问题，本发明的目的在于提供一种微影制作方法，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数来提高产品质量，确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳产品质量。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：

一种微影制作方法，包括如下步骤：

S10：选择芯模，选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题；

S11：确定不同种类干膜对应的曝光量，对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定；

S12：确定显影参数。

进一步地，所述步骤S10中，选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模。

进一步地，所述芯膜的厚度为0.3mm或者1.8mm。

进一步地，对于100um及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50MJ~500MJ之间；而对于100um~130um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500MJ~1000MJ之间。

进一步地，所述步骤S12包括有：计算显影点，首先确定显影段的长度L，使贴膜的板以速度V₁匀速前进，当板的前端到达显影段末尾时停止显影喷淋，让板传送出显影机，等板面水渍干净测量显净部分长度l，通过公式(L-l)/L*100%来计算显影点。

本发明微影制作方法以合适厚度的芯模来解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。确定不同种类干膜对应的曝光量以及显影参数来达到最佳产品质量。提高显影质量，提高了芯模表面质量以及使用次数，贴膜、曝光、显影以最优组合搭配参数提高产品质量。

 

附图说明

图1是本发明微影制作方法的流程图示。

 

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参照图1所示，本发明微影制作方法包括如下步骤：

S10：选择芯模

选定一种材料及合适厚度的芯模，以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题。本发明实施例中，选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模，不锈钢304材质的钢板表面及硬度都较其他材质的芯模好；其中，优选两种厚度：0.3mm、1.8mm。

S11：确定不同种类干膜对应的曝光量

对于不同厚度干膜的曝光量，通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定。本发明实施例中，100um及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模，曝光量50MJ~500MJ之间，显影点控制在85%~90%之间，实用于电铸mask类产品。而100um~130um的干膜使用1.8mm芯模，曝光量500MJ~1000MJ之间，显影点控制在89%~93%之间，实用于普通PCB电铸产品。