[发明专利]一种微影制作方法在审

专利信息
申请号: 201210010745.7 申请日: 2012-01-16
公开(公告)号: CN103207525A 公开(公告)日: 2013-07-17
发明(设计)人: 魏志凌;高小平;赵录军;陈龙英 申请(专利权)人: 昆山允升吉光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 制作方法
【权利要求书】:

1.一种微影制作方法,其特征在于,包括如下步骤:

S10:选择芯模,选定一种材料及合适厚度的芯模,以解决产品表面应力、质量及芯模寿命的问题;

S11:确定不同种类干膜对应的曝光量,对于不同厚度干膜的曝光量,通过采用41节曝光尺的曝光实验来确定;

S12:确定显影参数。

2.如权利要求1所述的微影制作方法,其特征在于:所述步骤S10中,选择不锈钢304材质的钢板作为电铸芯模。

3.如权利要求1所述的微影制作方法,其特征在于:所述芯膜的厚度为0.3mm或者1.8mm。

4.如权利要求3所述的微影制作方法,其特征在于:对于100μm及以下的干膜使用0.3mm厚度的芯模,曝光量50MJ~500MJ之间;而对于100um~130um的干膜使用1.8mm芯模,曝光量500MJ~1000MJ之间。

5.如权利要求4所述的微影制作方法,其特征在于:所述步骤S12包括有:计算显影点,首先确定显影段的长度L,使贴膜的板以速度V1匀速前进,当板的前端到达显影段末尾时停止显影喷淋,让板传送出显影机,等板面水渍干净测量显净部分长度l,通过公式(L-l)/L*100%来计算显影点。

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