[发明专利]用于电子设备的尺寸稳定的含氟聚合物膜

权利要求书

1.具有改善的尺寸稳定性的膜，其包含：

(a)90重量％-99.9重量％的四氟乙烯和全氟(烷基乙烯基醚)的共聚物PFA，和

(b)0.1重量％-10重量％的无定形二氧化硅颗粒或无定形二氧化硅颗粒和胶体二氧化硅的混合物，

其中所述无定形二氧化硅颗粒的比表面积为50-400m²/g，所述膜在200℃加热30分钟后的收缩率小于2.5％，并且所述重量％是基于干膜的总重量。

2.权利要求1所述的膜，其中所述全氟(烷基乙烯基醚)是全氟(乙基乙烯基醚)、全氟(丙基乙烯基醚)或全氟(甲基乙烯基醚)。

3.多层制品，其包含权利要求1所述的膜和至少一个透明导电氧化物层，其中权利要求1所述的膜的厚度为5μm-60μm，并且在360-740nm的范围内的透光率为至少55％。

4.权利要求3所述的多层制品，其中所述透明导电氧化物层包含铟锡氧化物ITO、氟掺杂锡氧化物FTO、铝掺杂氧化锌AZO、碳纳米管网络、石墨烯网络或包含聚(3，4-亚乙二氧基噻吩)及其衍生物的聚合物网络。

5.电子设备，其包括权利要求1所述的膜和电子电路。

6.权利要求5所述的电子设备，其是光伏模块、电子显示器设备或半导体设备。

7.权利要求5所述的电子设备，其中权利要求1所述的膜的厚度为5μm-60μm，并且在360-740nm的范围内的透光率为至少55％。

8.权利要求5所述的电子设备，其是薄膜光伏模块，其中所述电子电路是太阳能电池，权利要求1所述的膜上沉积有至少一层透明导电氧化物层，并且所述透明导电氧化物层与所述太阳能电池相接触。

9.权利要求8所述的电子设备，其中其上沉积有至少一层透明导电氧化物层的权利要求1所述的膜就是权利要求3所述的多层制品。

10.制备权利要求1所述的膜的方法，其包括：

i.提供熔点高于450℃的支撑片；

ii.将涂覆组合物涂覆于所述支撑片上而形成膜覆片；

iii.将所述膜覆片在80-120℃下干燥5-20分钟；

iv.将所述膜覆片在300-450℃下烘烤10-60分钟；

v.任选地，重复步骤ii-iv而得到厚度为5-60μm的干膜；和

vi.将干膜与所述支撑片分离。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述步骤ii的涂覆组合物包含：

(a)30重量％-65重量％的四氟乙烯和全氟(烷基乙烯基醚)的共聚物；

(b)0.1重量％-5重量％的无定形二氧化硅颗粒或无定形二氧化硅颗粒和胶体二氧化硅的混合物，其中所述无定形二氧化硅颗粒的比表面积为50-400m²/g；

(c)2重量％-15重量％的非离子型表面活性剂；

(d)0-10重量％的其他添加剂；和

(e)余量的水；

其中所述重量％基于所述涂覆组合物的总重量。

12.制备权利要求3所述的多层制品的方法，其包括：

1)提供权利要求1所述的膜；和

2)通过化学气相沉积、溅射或旋涂在所述膜上形成透明导电氧化物层。

13.权利要求1所述的膜用于光伏模块作为基板的用途，其中所述膜在200℃加热30分钟后的收缩率小于2.5％，所述膜的厚度为5μm-60μm，并且在360-740nm的范围内的透光率为至少55％。