[发明专利]一种测量镜面形补偿效果的方法

说明书

技术领域

本发明涉及面形测量领域，特别涉及镜面形补偿效果的测量方法。

 

背景技术

在现有光刻设备中，安装在掩模台或基底台侧面的长条镜，尽管经过了精密的机械加工、打磨，但是其表面仍然不可避免存在缺陷。即使几纳米大小的缺陷点，也使光刻机系统精度产生相当大的误差。为尽可能的减少上述误差，必须在曝光之前对长条镜表面进行扫描测试，得到其表面面形图像的测量数据，然后对表面缺陷进行修正补偿，从而满足系统的高精度要求。

专利US05790253利用控制水平向位置的干涉仪进行测量得到长条镜面形。当基底台沿X向（Y向）步进时，由控制水平向Y向(X向)位置的两轴干涉仪进行测量，通过模型计算得到长条镜表面的不平整度。通过对测量位置进行面形补偿，可提高控位准确性，即提高套刻精度。对掩模台的长条镜同样可适用此方法进行测量补偿。该专利方法主要通过控制水平向干涉仪测量得到长条镜面形，但测量后的面形补偿是否正确，则需验证镜面形补偿效果。现有技术通常采用曝光的方式分析镜面形补偿效果，但曝光结果中误差项较多，分析较为复杂。

发明内容

现有技术的缺陷在于，镜面形补偿效果通过曝光方式测量，分析较为复杂。

为了解决上述技术问题，本发明提供一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统，所述掩模台贴附有长条镜，所述掩模台干涉仪系统的干涉仪光束通过所述长条镜反射，控制所述掩模台的运动，该方法包括：

上载具有测试标记的所述掩模，所述测试标记包括若干子标记，所述子标记排成一列；

所述掩模台干涉仪系统控制所述掩模台沿所述若干子标记的排列方向运动，通过所述掩模对准系统进行对准测量，分别获得所述若干子标记的对准位置，所述测试标记与所述掩模对准系统的对准标记相匹配；

根据所述对准位置获得面形残差测量值，判断在所述排列方向上的所述长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。

进一步，所述获得面形残差测量值具体为通过所述对准位置线性拟合后获得面形残差值，去除随机测量值，取剩余面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

进一步，所述获得面形残差测量值具体为通过画图工具将所述对准位置拟合为面形残差图，取横轴为掩模台运动的位置值，纵轴为面形残差值，取面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

进一步，若所述面形残差测量值小于面形残差阈值，则证明所述排列方向上的镜面形补偿达到要求。

本发明还提供一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、基底台干涉仪系统、基底对准系统，所述基底台贴附有长条镜，所述基底台干涉仪系统的干涉仪光束通过所述长条镜反射，控制所述基底台的运动，该方法包括：

上载具有测试标记的所述基底，所述测试标记包括若干子标记，所述子标记排成一列；

所述基底台干涉仪系统控制所述基底台沿所述若干子标记的排列方向运动，通过所述基底对准系统进行对准测量，分别获得所述若干子标记的对准位置，所述测试标记与所述基底对准系统的对准标记相匹配；

根据所述对准位置获得面形残差测量值，判断在所述排列方向上的所述长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。

进一步，所述获得面形残差测量值具体为通过所述对准位置线性拟合后获得面形残差值，去除随机测量值，取剩余面形残差值中最大值与最小值的偏差作为面形残差测量值。

进一步，所述获得面形残差测量值具体为通过画图工具将所述对准位置拟合为面形残差图，取横轴为基底台运动的位置值，纵轴为面形残差值，取所述面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

进一步，若所述面形残差测量值小于面形残差阈值，则证明所述排列方向上的镜面形补偿达到要求。

本发明的优点在于：本发明可离线进行测量验证镜面形补偿效果，也可单独用于验证镜面形测量。本发明步骤简单，验证镜面形补偿效果快速准确，可避免曝光分析引入不必要误差项。

附图说明

关于本发明的优点与精神可以通过以下的发明详述及所附图式得到进一步的了解。

图1为本发明所使用的光刻机结构示意图；

图2为本发明镜面形补偿效果测量方法的流程图；

图3为本发明使用的测试标记第一种实施方式的布局示意图；