[发明专利]一种测量镜面形补偿效果的方法

权利要求书

1.一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、掩模台干涉仪系统、掩模对准系统，所述掩模台贴附有长条镜，所述掩模台干涉仪系统的干涉仪光束通过所述长条镜反射，控制所述掩模台的运动，其特征在于，该方法包括：

上载具有测试标记的所述掩模，所述测试标记包括若干子标记，所述子标记排成一列；

所述掩模台干涉仪系统控制所述掩模台沿所述若干子标记的排列方向运动，通过所述掩模对准系统进行对准测量，分别获得所述若干子标记的对准位置，所述测试标记与所述掩模对准系统的对准标记相匹配；

根据所述对准位置获得面形残差测量值，判断在所述排列方向上的所述长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。

2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述获得面形残差测量值具体为通过所述对准位置线性拟合后获得面形残差值，去除随机测量值，取剩余面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

3.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述获得面形残差测量值具体为通过画图工具将所述对准位置拟合为面形残差图，取横轴为掩模台运动的位置值，纵轴为面形残差值，取面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

4.根据权利要求2或3所述的测量方法，其特征在于，若所述面形残差测量值小于面形残差阈值，则证明所述排列方向上的镜面形补偿达到要求。

5.一种测量镜面形补偿效果的方法，应用该方法的光刻机包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜成像系统、承载基底的基底台、基底台干涉仪系统、基底对准系统，所述基底台贴附有长条镜，所述基底台干涉仪系统的干涉仪光束通过所述长条镜反射，控制所述基底台的运动，其特征在于，该方法包括：

上载具有测试标记的所述基底，所述测试标记包括若干子标记，所述子标记排成一列；

所述基底台干涉仪系统控制所述基底台沿所述若干子标记的排列方向运动，通过所述基底对准系统进行对准测量，分别获得所述若干子标记的对准位置，所述测试标记与所述基底对准系统的对准标记相匹配；

根据所述对准位置获得面形残差测量值，判断在所述排列方向上的所述长条镜的镜面形补偿效果是否达到要求。

6.根据权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述获得面形残差测量值具体为通过所述对准位置线性拟合后获得面形残差值，去除随机测量值，取剩余面形残差值中最大值与最小值的偏差作为面形残差测量值。

7.根据权利要求5所述的测量方法，其特征在于，所述获得面形残差测量值具体为通过画图工具将所述对准位置拟合为面形残差图，取横轴为基底台运动的位置值，纵轴为面形残差值，取所述面形残差值中最大值与最小值的偏差作为所述面形残差测量值。

8.根据权利要求6或7所述的测量方法，其特征在于，若所述面形残差测量值小于面形残差阈值，则证明所述排列方向上的镜面形补偿达到要求。