[发明专利]转印模具的制造方法、利用该方法制造的转印模具以及利用该转印模具制造的零件无效

专利信息
申请号: 201180074858.7 申请日: 2011-11-15
公开(公告)号: CN104024487A 公开(公告)日: 2014-09-03
发明(设计)人: 佐野孝史;寺田常徳 申请(专利权)人: 株式会社LEAP
主分类号: C25D1/10 分类号: C25D1/10;B29C33/38
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本神奈川县横*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 印模 制造 方法 利用 以及 零件
【权利要求书】:

1.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:

于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有所期望的角度α;

借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;以及

使上述转印模具离开上述金属基板,以制造母料模具的步骤。

2.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:

于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有所期望的角度α;

借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;

使上述转印模具离开上述金属基板,以制造母料模具的步骤;

自上述母料模具经由母模具,而转印制造子模具的步骤;以及

对上述子模具进行剥离层处理与绝缘层处理,以制造转印模具的步骤,上述剥离层处理使上述电铸造所形成的上述零件易于剥离,上述绝缘层处理于上述零件的形成部分以外的部分形成绝缘层。

3.根据权利要求1或2所述的转印模具的制造方法,其特征在于包含:

最初在上述金属基板的表面形成粗糙面化层的步骤。

4.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:

于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有大致为90°的角度;

借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;

使上述转印模具离开上述金属基板的步骤;

进行光致抗蚀剂加工的步骤,使得光致抗蚀剂图案层残留于:已离开的上述转印模具上的除了经转印的零件部分之外的部分;以及

以使上述零件形状的侧壁的角度为大致90°至不足90°的任意的角度的方式,来将上述光致抗蚀剂图案层作为保护层、且进行射束加工,以制造母料模具的步骤。

5.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:

于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有大致为90°的角度;

借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;

使上述转印模具离开上述金属基板的步骤;

进行光致抗蚀剂加工的步骤,使得光致抗蚀剂图案层残留于:已离开的上述转印模具上的除了经转印的零件部分之外的部分;

以使上述零件形状的侧壁的角度为大致90°至不足90°的任意的角度的方式,来将上述光致抗蚀剂图案层作为保护层、且进行射束加工,以制造母料模具的步骤;

自上述母料模具经由母模具,而转印制造子模具的步骤;以及

对上述子模具进行剥离层处理与绝缘层处理,以制造转印模具的步骤,上述剥离层处理使上述电铸造所形成的上述零件易于剥离,上述绝缘层处理于上述零件的形成部分以外的部分形成绝缘层。

6.根据权利要求4或5所述的转印模具的制造方法,其特征在于包含:

最初在上述金属基板的表面形成粗糙面化层的步骤。

7.一种母料模具,其特征在于:

借由根据权利要求1、3、4、6中任一所述的转印模具的制造方法来制造,

上述母料模具的剖面具有所期望的纵横比,且上述母料模具的侧壁的角度为45°~88°。

8.一种转印模具,其特征在于:

借由根据权利要求2、3、5、6中任一所述的转印模具的制造方法来制造。

9.一种零件,借由电铸造来制造,其特征在于:

使用根据权利要求8所述的转印模具,借由上述电铸造来转印制造。

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