[发明专利]转印模具的制造方法、利用该方法制造的转印模具以及利用该转印模具制造的零件无效
申请号: | 201180074858.7 | 申请日: | 2011-11-15 |
公开(公告)号: | CN104024487A | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 佐野孝史;寺田常徳 | 申请(专利权)人: | 株式会社LEAP |
主分类号: | C25D1/10 | 分类号: | C25D1/10;B29C33/38 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 臧建明 |
地址: | 日本神奈川县横*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 印模 制造 方法 利用 以及 零件 | ||
1.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:
于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有所期望的角度α;
借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;以及
使上述转印模具离开上述金属基板,以制造母料模具的步骤。
2.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:
于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有所期望的角度α;
借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;
使上述转印模具离开上述金属基板,以制造母料模具的步骤;
自上述母料模具经由母模具,而转印制造子模具的步骤;以及
对上述子模具进行剥离层处理与绝缘层处理,以制造转印模具的步骤,上述剥离层处理使上述电铸造所形成的上述零件易于剥离,上述绝缘层处理于上述零件的形成部分以外的部分形成绝缘层。
3.根据权利要求1或2所述的转印模具的制造方法,其特征在于包含:
最初在上述金属基板的表面形成粗糙面化层的步骤。
4.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:
于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有大致为90°的角度;
借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;
使上述转印模具离开上述金属基板的步骤;
进行光致抗蚀剂加工的步骤,使得光致抗蚀剂图案层残留于:已离开的上述转印模具上的除了经转印的零件部分之外的部分;以及
以使上述零件形状的侧壁的角度为大致90°至不足90°的任意的角度的方式,来将上述光致抗蚀剂图案层作为保护层、且进行射束加工,以制造母料模具的步骤。
5.一种转印模具的制造方法,其特征在于包括:
于金属基板上形成零件形状的光致抗蚀剂图案的步骤,上述零件形状的光致抗蚀剂图案具有所期望的纵横比,且上述零件形状的光致抗蚀剂图案的侧壁具有大致为90°的角度;
借由电铸造来将上述零件形状的光致抗蚀剂图案完全填埋、直至达到规定的厚度为止,以制造转印模具的步骤;
使上述转印模具离开上述金属基板的步骤;
进行光致抗蚀剂加工的步骤,使得光致抗蚀剂图案层残留于:已离开的上述转印模具上的除了经转印的零件部分之外的部分;
以使上述零件形状的侧壁的角度为大致90°至不足90°的任意的角度的方式,来将上述光致抗蚀剂图案层作为保护层、且进行射束加工,以制造母料模具的步骤;
自上述母料模具经由母模具,而转印制造子模具的步骤;以及
对上述子模具进行剥离层处理与绝缘层处理,以制造转印模具的步骤,上述剥离层处理使上述电铸造所形成的上述零件易于剥离,上述绝缘层处理于上述零件的形成部分以外的部分形成绝缘层。
6.根据权利要求4或5所述的转印模具的制造方法,其特征在于包含:
最初在上述金属基板的表面形成粗糙面化层的步骤。
7.一种母料模具,其特征在于:
借由根据权利要求1、3、4、6中任一所述的转印模具的制造方法来制造,
上述母料模具的剖面具有所期望的纵横比,且上述母料模具的侧壁的角度为45°~88°。
8.一种转印模具,其特征在于:
借由根据权利要求2、3、5、6中任一所述的转印模具的制造方法来制造。
9.一种零件,借由电铸造来制造,其特征在于:
使用根据权利要求8所述的转印模具,借由上述电铸造来转印制造。
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