[发明专利]识别装置和制造连续结构的方法

权利要求书

1.一种识别装置，包括至少一个磁响应的微线材（21），该微线材适于对外部磁场作出响应，其特征在于，该识别装置包括由保护性的覆层构件（29）围绕的芯构件（7）和布置在所述芯构件（7）与保护性的覆层构件（29）之间的至少一个微线材（21）。

2.根据权利要求1所述的识别装置，其特征在于，存在至少一个微线材（21）与所述芯构件（7）接触。

3.根据权利要求1或2所述的识别装置，其特征在于，该识别装置沿着中心纵轴线（9）具有细长形状，所述芯构件（7）、至少一个微线材（21）和保护性的覆层构件（29）沿着所述纵轴线（9）延伸。

4.根据权利要求3所述的识别装置，其特征在于，所述芯构件（7）围绕中心纵轴线（9）延伸，至少一个微线材（21）在该中心纵轴线（9）周围相对于所述轴线偏置地径向定位。

5.根据任一前述权利要求所述的识别装置，其特征在于，所述芯构件包括至少一个抗牵拉元件（5）。

6.根据权利要求5所述的识别装置，其特征在于，至少一个抗牵拉元件（5）是非金属丝线、丝线束、绳股、线材、绳索、编织物或带材。

7.根据权利要求5或6所述的识别装置，其特征在于，所述芯构件（7）包括压制到至少一个抗牵拉元件（5）上的聚合物层（31）。

8.根据权利要求7所述的识别装置，其特征在于，所述聚合物层选自聚丙烯、聚乙烯、聚酯、聚酰胺或者其任意组合。

9.根据任一前述权利要求所述的识别装置，其特征在于，在保护性的覆层构件（29）与芯构件（7）之间布置有多个微线材（21），这些微线材彼此相距一定距离进行布置。

10.一种制造连续结构（30）的方法，包括以下步骤：

a．提供芯构件（7）；

b．相对于所述芯构件（7）布置至少一个磁响应的微线材（21），所述磁响应的微线材（21）适于对外部磁场作出响应；以及

c．在起支撑作用的芯构件（7）和磁响应的微线材（21）周围压制覆层构件（29），以便形成识别构件（30），其中，所述至少一个磁响应的微线材（21）由周围的覆层构件（29）保护。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述芯构件（7）沿着纵轴线（9）具有细长形状。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，还包括沿着多个彼此间隔开的、横断的切割平面切割所述识别构件（30），以便构成多个识别装置（32）。

13.一种用于制作识别构件（30）的设备，包括：

a．用于压制芯构件（7）的第一装置；

b．用于相对于所述芯构件（7）定位微线材的第二装置；以及

c．用于围绕所述芯构件（7）和微线材（21）压制覆层构件（29）的第三装置。

14.一种包括根据权利要求1-9中任一项所述的识别装置的胶囊（34）。