[发明专利]用于流体中微粒子的多参数测量的设备和方法

权利要求书

1.一种用于微粒子的表征的电光流式测量设备，包括：要表征的流体的流在其中循环的测量室（CUM）、不相交光谱的至少两个光源（S1、S2）、用于测量电阻率（RES）的设备、以及均允许光学参数的测量的至少三个其他检测器（D1、D2、D3），所述光学参数选自荧光（FL）、消光（EXT）、广角衍射（SSC）、以及小角衍射（FSC），

所述电光设备的特征在于：

-第一光源（S1），最小相干并具有最长波长，限定出与粒子的所述流垂直的主光轴，所述主光轴具有位于所述室的任一侧的两个光学组件，一个光学组件是使由所述第一光源（S1）发射的束成形的发射枪（CE），另一光学组件是收集由所述第一光源（S1）发射的信号且位于所述测量室（CUM）之后的接收枪（CR）；

-第二光源（S2），最大相干并具有最短波长，限定出与所述主光轴相交并且垂直于粒子的所述流的副光轴；

-第一检测器（D1），面对所述第一光源（S1）布置在所述接收枪（CR）的末端，并因此具有光场操作；

-所述接收枪（CR）包括收集光学装置（OC），收集由所述第一光源（S1）与所述流中的粒子之间的相互作用而朝向所述第一检测器（D1）发出的束，这些收集光学装置（OC）使得在其部分路径（CC）上，所传送的光束基本上是准直束；

-第一分色镜（MR），布置在所述接收枪（CR）中的光束被基本准直的所述部分路径处，从而将由所述第二光源（S2）与所述流中的粒子之间的相互作用而发出的光束部分反射向第二检测器（D2），所述第二检测器布置在被部分反射的束的路径上；

-所述发射枪（CE）包括束成形光学装置（OM），用以使由所述第一光源（S1）发射的束成形，这些束成形光学装置（OM）使得在其部分路径（CM）上，光束基本上是准直束；以及

-第二分色镜（ME），布置在所述第一光源（S1）与所述室（CUM）之间的发射枪（CE）中的光束被基本准直的所述部分光路（CM）处，以便将由所述第二光源（S2）与所述流中的粒子之间的相互作用而发出的束部分反射向第三检测器（D3），所述第三检测器布置在被部分反射的束的路径上。

2.根据权利要求1所述的设备，特征在于：衍射/散射检测器面对所述第二光源（S2）布置在所述测量室（CUM）的另一侧。

3.根据前述权利要求中的一项所述的设备，特征在于：所述第一检测器（D1）具有可切换的增益，使得其能够执行两类测量，一个是消光测量（EXT），另一个选自衍射（SSC、FSC）和荧光（FL）。

4.根据前述权利要求中的一项所述的设备，特征在于：所述第一检测器（D1）执行消光测量（EXT），所述第二检测器（D2）执行广角衍射测量（SSC），而所述第三检测器（D3）执行荧光测量（FL1）。

5.根据权利要求1至3中的一项所述的设备，特征在于：所述第一检测器（D1）执行消光测量（EXT），所述第二检测器（D2）执行荧光测量（FL2），而所述第三检测器（D3）执行荧光测量（FL1）。

6.根据前述权利要求中的一项所述的设备，特征在于：两个分色镜（MR、ME）具有相同的光学特性，产生比所述第二光源（S2）的波长长且比所述第一光源（S1）的波长短的波长的全反射。

7.根据前述权利要求中的一项所述的设备，特征在于：至少一个其他分色镜添加到所述发射枪（CE）和/或接收枪（CR）中。