[发明专利]防反射材料

说明书

技术领域

本发明涉及防反射材料，更详细地说涉及防反射材料，其为使用一次涂布即可制作的涂布膜，其具有光学波长的低波长区域（400nm）和长波长区域（800nm）处的反射率分别为3.5%以下、且反射率的最小值为0.8%以下、其峰位置成为460～720nm的防反射性能，且可以使其雾度值自基材的变化为1.5%以下。

背景技术

在各种显示器、透镜、陈列窗等与空气相接触的界面（表面）上，由于太阳光或照明等在表面上的反射所导致的可视性降低已成为问题。作为用于减少反射的方法，已知层叠折射率不同的多层膜，使得膜表面处的反射光与膜和基材的界面处的反射光通过干扰而打消的方法。这些膜通常利用溅射、蒸镀、涂布等方法进行制造。这些膜开发了单层、2层、3层~6层以上层叠而成的多层膜。

制成2层或其以上的多层结构时，由于各膜的折射率及膜厚的设定还未确立系统性的方法，因此一般来说使用下述方法：基于矢量性地处理反射光的矢量法、或者复杂的矩阵法等，对反射光的相位条件及振幅条件以满足所期望那样的方式进行尝试，并依次层叠具有符合这些条件的折射率和膜厚的膜。

另一方面，作为单层最为普通的是形成氟化镁（MgF₂折射率n=1.38）、二氧化硅（SiO₂折射率n=1.46）的膜的方法。通过在支撑体上设置膜厚0.1μm左右的单层膜，可以减少该支撑体的表面反射率。

这里，形成于支撑体上的单层膜的最小反射率利用下述式（1）计算。

R_min=〔（n₁²-n₀n₂）/（n₁²＋n₀n₂）〕² …（1）

n₀：空气的折射率、n₁：膜的折射率、n₂：支撑体的折射率

当空气的折射率n₀=1、使支撑体为PET膜（n₂=1.63）时，由于n₁²-n₀n₂=n₁²-1.63，可期待n₁²=1.63（膜的折射率：n₁=1.28）、反射率R_min=0。

作为折射率小的材料，可举出空气（n=1）。作为降低膜的折射率的方法，提出了利用将二氧化硅制成中空结构或多孔质结构（例如参照专利文献1、2）、或在膜中形成纳米尺寸的气泡（例如参照专利文献3）等方法在膜中形成空气层，降低膜的折射率的方法。

另外，最近作为在膜中导入空气层的方法，广泛研究了在膜的表面上形成微细凹凸结构的方法。通过该方法，由于形成有微细凹凸结构的表面的整个层的折射率是由空气与形成微细凹凸结构的材料的体积比所决定的，因此可以大幅降低折射率，即便层叠数少，也可降低反射率。例如，提出了在整个膜上连续地形成角锥状凸部的防反射膜（例如参照专利文献4）。如专利文献4所记载的那样，形成有角锥状凸部（微细凹凸结构）的防反射膜由于在膜面方向上切断时的截面积连续地变化、折射率由空气至基板慢慢地增大，因此成为有效的防反射方法。另外，该防反射膜显示其他方法所无法替代的优异的光学性能。

现有技术文献

专利文献

[专利文献1]日本特开2007-164154号公报

[专利文献2]日本特开2009-54352号公报

[专利文献3]日本特开平11-281802号公报

[专利文献4]日本特开昭63-75702号公报。

发明内容

发明要解决的课题

为了制作以基于所述矢量法或复杂的矩阵法等而设计的折射率、膜厚来控制的层叠体，由于在涂布法中膜厚的控制是困难的，因此有必要通过溅射、蒸镀而进行。因而，必须在封闭体系中进行，对大面积基材的成膜困难、生产率也低。