[发明专利]防反射材料无效
申请号: | 201180062349.2 | 申请日: | 2011-12-12 |
公开(公告)号: | CN103339534A | 公开(公告)日: | 2013-10-02 |
发明(设计)人: | 小林章洋;中野达也;高田隆久 | 申请(专利权)人: | 宇部日东化成株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 高旭轶;杨思捷 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 材料 | ||
1.防反射材料,其为设置在具有透光性的基材表面的至少一部分而成的、由粘合剂、二氧化硅粒子和存留空气构成的涂布膜,其特征在于,所述二氧化硅粒子自基材表面以2层排列,作为基材侧的第1层在铺满粒子的同时,在所述基材与所述二氧化硅粒子之间具有所述存留空气,且第2层的二氧化硅粒子将所述第1层的二氧化硅粒子的一部分覆盖,同时在所述第1层的二氧化硅粒子与所述第2层的二氧化硅粒子之间具有所述存留空气。
2.根据权利要求1所述的防反射材料,其中,在涂布膜中,粘合剂/二氧化硅粒子的比例以质量比计为1/99~20/80,且第2层的二氧化硅粒子数相对于第1层的二氧化硅粒子数以10~90%的存在比例排列而成。
3.根据权利要求1或2所述的防反射材料,其中,基材至第1层粒子上端的距离H1和所述基材至第2层粒子上端的距离H2满足下述式(2),
1.5≦H2/H1≦2.1 …(2)。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的防反射材料,其中,二氧化硅粒子的平均粒径为50~180nm、同时其粒度分布的变异系数CV值为35%以下。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的防反射材料,其中,粘合剂为具有聚合性官能团的化合物。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的防反射材料,所述粘合剂为具有至少1个选自丙烯酰基或甲基丙烯酰基、乙烯基所组成的组中的聚合性官能团的化合物。
7.根据权利要求1~4中任一项所述的防反射材料,粘合剂为将下述通式(3)所示的烷氧化物化合物经水解-缩合反应所获得的M-O重复单元作为主骨架的缩合物,
(R1)nM(OR2)m-n…(3)
式中,R1表示非水解性基团,R2表示碳原子数1~6的烷基,M表示选自硅、钛、锆和铝中的金属原子,m为金属原子M的价数、为3或4,n在m为4时为0~2的整数、在m为3时为0~1的整数。
8.根据权利要求1~5中任一项所述的防反射材料,在对基材的里面进行黑色化时的反射波形中,400nm和800nm的反射率分别为3.5%以下,反射率的最小值为0.8%以下且其峰位置处于460~720nm的区域。
9.根据权利要求1~6中任一项所述的防反射材料,雾度值满足下述式(4),
│防反射材料的雾度值-具有透光性的基材的雾度值│≦1.5…(4)。
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