[发明专利]分散有C粒子的Fe-Pt型溅射靶

权利要求书

1.一种溅射靶，其为原子数的组成比由式(Fe_100-X-Pt_X)_100-A-C_A(其中，A为满足20≤A≤50的数，X为满足35≤X≤55的数)表示的烧结体溅射靶，其特征在于，具有微细分散在合金中的C粒子，并且相对密度为90%以上。

2.一种溅射靶，其为原子数的组成比由式(Fe_100-X-Y-Pt_X-Cu_Y)_100-A-C_A(其中，A为满足20≤A≤50的数，X为满足35≤X≤55的数，Y为满足0.5≤Y≤15的数)表示的烧结体溅射靶，其特征在于，具有微细分散在合金中的C粒子，并且相对密度为90%以上。

3.如权利要求1或2所述的溅射靶，其特征在于，在溅射靶的切割面的研磨组织中，C粒子的平均面积为4μm²以下。

4.如权利要求1至3中任一项所述的溅射靶，其特征在于，C为石墨。

5.如权利要求1至4中任一项所述的溅射靶，其特征在于，溅射靶中的氧含量为600重量ppm以下。

6.如权利要求1至5中任一项所述的溅射靶，其特征在于，含有20摩尔%以下选自B、Mg、Al、Si、Ti、Cr、Zr、Nb、Ta的一种以上元素的氧化物作为添加成分，并且具有该氧化物分散在合金中的组织。