[发明专利]树脂组合物、绝缘膜、膜形成方法及电子部件

权利要求书

1.一种树脂组合物，含有聚合物和有机溶剂，所述聚合物具有选自下述式（1）表示的结构单元和下述式（2）表示的结构单元中的至少一个的结构单元i，所述有机溶剂为选自醚系溶剂、酮系溶剂、酯系溶剂和酰胺系溶剂中的至少一种，

式（1）中，R¹～R⁴各自独立地表示碳原子数1～12的1价有机基团，a～d各自独立地表示0～4的整数，

式（2）中，R¹～R⁴和a～d各自独立地与所述式（1）中的R¹～R⁴和a～d定义相同，Y表示单键、-SO₂-或＞C＝O，R⁷和R⁸各自独立地表示卤原子、碳原子数1～12的1价有机基团或硝基，g和h各自独立地表示0～4的整数，m表示0或1，其中，m为0时，R⁷不为氰基。

2.根据权利要求1所述的树脂组合物，其中，所述有机溶剂含有选自酮系溶剂、酯系溶剂和醚系溶剂中的至少一种有机溶剂、以及酰胺系溶剂。

3.根据权利要求1或2所述的树脂组合物，其中，所述酮系溶剂是碳原子数4～10的酮类。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的树脂组合物，其中，所述酯系溶剂是碳原子数3～10的酯类。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的树脂组合物，其中，所述醚系溶剂是碳原子数3～10的醚类。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的树脂组合物，其中，所述酰胺系溶剂是碳原子数3～10的酰胺类。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的树脂组合物，其中，所述有机溶剂含有相对于全部有机溶剂100质量份为5～95质量份的酰胺系溶剂。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的树脂组合物，其中，所述树脂组合物中的聚合物浓度为3～40质量%。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的树脂组合物，其中，所述聚合物进一步具有选自下述式（3）表示的结构单元和下述式（4）表示的结构单元中的至少一个的结构单元ii，

式（3）中，R⁵和R⁶各自独立地表示碳原子数1～12的1价有机基团，Z表示单键、-O-、-S-、-SO₂-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或碳原子数1～12的2价有机基团，e和f各自独立地表示0～4的整数，n表示0或1，

式（4）中，R⁷、R⁸、Y、m、g以及h各自独立地与所述式（2）中的R⁷、R⁸、Y、m、g以及h定义相同，R⁵、R⁶、Z、n、e以及f各自独立地与所述式（3）中的R⁵、R⁶、Z、n、e以及f定义相同。

10.根据权利要求9所述的树脂组合物，其中，在所述聚合物中，所述结构单元i与所述结构单元ii的摩尔比为50:50～100:0。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的树脂组合物，其中，所述聚合物通过凝胶渗透色谱GPC测得的聚苯乙烯换算的重均分子量为5000～500000。

12.根据权利要求1～11中任一项所述的树脂组合物，用于选自绝缘膜形成用、半导体元件用、显示元件用以及保护膜形成用中的至少1种用途。

13.一种绝缘膜，由权利要求1～11中任一项所述的树脂组合物获得。

14.一种膜形成方法，包含将权利要求1～12中任一项所述的树脂组合物涂布在基板上而形成涂膜的工序、和从该涂膜中除去所述有机溶剂而获得膜的工序。

15.一种电子部件，具有权利要求13所述的绝缘膜、或者由权利要求14所述的膜形成方法得到的膜。