[发明专利]粉体分配装置有效

专利信息
申请号: 201180053945.4 申请日: 2011-10-14
公开(公告)号: CN103201202A 公开(公告)日: 2013-07-10
发明(设计)人: 救护胜 申请(专利权)人: 日清制粉集团本社股份有限公司
主分类号: B65G53/04 分类号: B65G53/04;B65G53/16
代理公司: 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 代理人: 胡福恒
地址: 日本国东京都千*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 分配 装置
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种粉体分配装置,尤其涉及一种利用回旋气体流分配粉体的分配装置。

背景技术

目前,在工业、农业、食品业等中,存在将成为处理对象的粉体分配至多处实施处理的情况。进行这种分配处理的装置,已记载于例如专利文献1及2中。这些装置均具有顶点朝向铅垂下方的圆锥形状的分配室,且在该分配室内形成回旋气体流,并且将气体搬运的粉体从顶点部向上方导入分配室内,藉此从相对于分配室配置成辐射状的复数个排出口分配粉体。

(专利文献1)日本特开昭62-25166号公报

(专利文献2)日本特开2010-145071号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而,如专利文献1及2所记载,当欲采用顶点朝向铅垂下方的圆锥形状的分配室分配粉体时,有时粉体会附着于形成分配室的内壁的圆锥面上。尤其是,例如粒径在1μm以下的次微米粒子等的微粉体,容易附着凝聚在圆锥面上而形成粒径大的凝聚体。当如此形成的凝聚体从圆锥面剥离并混合于微粉体中时,就变得难以进行期望的分配。另外,由于分配的粉体的粒度分布变动在后续处理中恐怕会有障碍。

本发明为了解除这种以往的问题而开发完成,其目的在于提供一种即便对于微粉体也可以一边抑制凝聚体的形成一边进行期望的分配的粉体分配装置。

解决问题的手段

本发明的粉体分配装置,具备:圆柱形状的分配室;及粉体导入管,其沿着分配室的中心轴延伸并从面向分配室的导入口将粉体导入分配室内;及回旋气体流形成手段,其在分配室内形成绕分配室的中心轴回旋的回旋气体流;及复数个粉体分配通道,其分别与分配室的外周面连通;以及狭缝,其形成于复数个粉体分配通道和分配室的连通部。

优选地,回旋气体流形成手段包含:圆筒形状的压缩气体导入室,其形成于粉体导入管的外周部并且与分配室连通;及复数个喷嘴,其沿着压缩气体导入室的周围排列并用以向压缩器以导入室内喷出压缩气体以形成圆周方向的气体流;以及压缩气体供给源,其向复数个喷嘴供给压缩气体。

进一步优选地,从分配室的底面至粉体导入管的导入口的高度为分配室的内径的1/2以上,且为从分配室的底面至复数个喷嘴的高度以下。

另外,优选地,通过回旋气体流形成手段形成的回旋气体流具有流通于粉体分配装置整体的气体流量的1/2以上的流量。

另外,复数个粉体分配通道,虽然以相对于分配室的中心轴延伸成辐射状的方式来形成的话,可以使得粉体分配装置构成更小型,但是也可以按照粉体而形成各式各样的形状。

发明效果

根据本发明,由于是在圆柱形状的分配室内形成回旋气体流,且从沿着分配室的中心轴延伸的粉体导入管将粉体导入分配室内,并通过狭缝分配至与分配室的外周面连通的复数个粉体分配通道,所以即便对于微粉体也能够一边抑制凝聚体的形成一边进行期望的分配。

附图说明

图1为显示本发明实施形态的粉体分配装置的构成的正面剖视图。

图2为图1的A-A线剖视图。

图3为图1的B-B线剖视图。

图4为显示在实施形态的粉体分配装置中变动系数对从1处排出的粉体流量的关系的曲线图。

图5为显示在变化例的粉体分配装置中变动系数对从1处排出的粉体流量的关系的曲线图。

图6为显示在实施形态的粉体分配装置中变动系数对粉体导入口的高度位置的关系的曲线图。

图7为显示在实施形态的粉体分配装置中粉体导入口的高度对分配室的内径之比与变动系数的关系的曲线图

图8为显示在实施形态的粉体分配器中回旋气体流量对整体风量之比与变动系数的关系的曲线图。

图9为显示在实施形态的粉体分配器中变动系数对粉体供给流量的关系;其中(A)为狭缝高度2mm时的曲线图;(B)为狭缝高度4mm时的曲线图;(C)为狭缝高度8mm时的曲线图。

附图标记

1壳体  2粉体导入管  2a粉体导入管的下半部  3分配室  4贯通孔5压缩气体导入室  6粉体导入口  7喷嘴  8气体积留部  9气体供给口10压缩气体供给源  11粉体分配通道  12狭缝  C中心轴  D1分配室的内径D2贯通孔的内径  D3粉体导入管2的外径H从分配室的底面至粉体导入口为止的高度  h狭缝的高度

具体实施方式

以下,根据附图所示的较佳实施形态,详细地说明本发明。

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