[发明专利]粉体分配装置有效
| 申请号: | 201180053945.4 | 申请日: | 2011-10-14 |
| 公开(公告)号: | CN103201202A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
| 发明(设计)人: | 救护胜 | 申请(专利权)人: | 日清制粉集团本社股份有限公司 |
| 主分类号: | B65G53/04 | 分类号: | B65G53/04;B65G53/16 |
| 代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 胡福恒 |
| 地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 分配 装置 | ||
1.一种粉体分配装置,其特征在于,具备:
圆柱形状的分配室;及
粉体导入管,其沿着所述分配室的中心轴延伸并从面向所述分配室的导入口将粉体导入所述分配室内;及
回旋气体流形成手段,其在所述分配室内形成绕所述分配室的中心轴回旋的回旋气体流;及
复数个粉体分配通道,其分别与所述分配室的外周面连通;以及
狭缝,其形成于所述复数个粉体分配通道和所述分配室的连通部。
2.如权利要求1所述的粉体分配装置,其中,所述回旋气体流形成手段包含:
圆筒形状的压缩气体导入室,其形成于所述粉体导入管的外周部并与所述分配室连通;及
复数个喷嘴,其沿着所述压缩气体导入室的周围排列并用以向所述压缩气体导入室内喷出压缩气体以形成圆周方向的气体流;以及
压缩气体供给源,其向所述复数个喷嘴供给压缩气体。
3.如权利要求2所述的粉体分配装置,其中,从所述分配室的底面至所述粉体导入管的所述导入口的高度为所述分配室的内径的1/2以上,且为从所述分配室的底面至所述复数个喷嘴的高度以下。
4.如权利要求1~3中任一项所述的粉体分配装置,其中,通过回旋气体流形成手段所形成的回旋气体流,具有流通于粉体分配装置整体的气体流量的1/2以上的流量。
5.如权利要求1~4中任一项所述的粉体分配装置,其中,所述复数个粉体分配通道相对于所述分配室的中心轴延伸成辐射状。
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