[发明专利]图案形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种通过热光刻(thermal lithography)形成图案的图案形成方法。

背景技术

以往，作为光碟、用于制造光碟的原盘、在发光面形成凸凹的发光元件等中的图案的形成方法，已知有光刻法(photolithography)。光刻法是指在基板上形成抗蚀剂层(resist layer)，之后将其曝光、显像成所期望的图案状，藉此形成包含已曝光部分和未曝光部分的图案的技术。

此外，作为可以形成较光刻法高的分辨率(resolution)图案的方法，已知有热光刻(参照专利文献1-3)。此方法是指，在基板上形成包含通过热而升华·气化的物质的抗蚀剂层，施加集中在应形成抗蚀剂层的凹陷部分的激光并加热而去除，藉此形成所期望的图案的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2007-216263号公报

专利文献2：特开2009-117019号公报

专利文献3：国际公开2006/072859号

发明内容

发明欲解决的问题

上述专利文献1-3中提案的热光刻，虽然每个都是通过使被激光加热的部分成为凹陷的正型加工来形成图案，但依图案而言，为了提高其形成效率，有时需要进行使被激光加热的部分成为凸部的负型加工。但现在的状况是，通过热光刻来实现负型加工的技术并不存在。

鉴于上述情况，本发明的目的在于提供一种通过热光刻来实现负型加工的图案形成方法。

解决问题采用的手段

本发明的图案形成方法是通过热光刻来形成图案的方法，其特征在于：在基板上形成包含氧杂菁(Oxonol)系色素的抗蚀剂层，在该形成的抗蚀剂层上，以大于等于1m/s(米/秒)且小于等于30m/s的扫描速度使激光进行扫描，并将该激光所扫描的抗蚀剂层用以醇为主要成分的显像液进行显像。

此处，主要成分定义为含量大于等于50摩尔％的成分。此外，可以水等溶剂稀释显像液。

在上述方法中，扫描速度可以是大于等于3.8m/s且小于等于28m/s。

此外，醇可以是甲醇，也可以是乙醇。

发明的效果

根据本发明的图案形成方法，首先，在基板上形成包含氧杂菁系色素的抗蚀剂层，在该形成的抗蚀剂层上，以大于等于1m/s且小于等于30m/s的扫描速度使激光进行扫描。藉此，抗蚀剂层的通过使激光进行扫描而被加热的部分转换成相对于醇而言溶解性低的物质。接下来，将激光所扫描的抗蚀剂层用以醇为主要成分的显像液进行显像。藉此，形成了抗蚀剂层的被激光加热的部分以外的部分被除去、而被激光加热的部分形成凸部的图案。

如上所述，根据本发明的图案形成方法，可以通过热光刻来实现负型加工。

附图说明

[图1]是表示本发明的图案形成方法的步骤图。

[图2]是表示通过实施例1形成的图案的加工状态的图。

[图3]是表示通过实施例2形成的图案的加工状态的图。

[图4]是表示通过实施例6形成的图案的加工状态的图。

具体实施方式

以下，参照图式，对本发明的实施方式进行说明。本发明的图案形成方法是通过热光刻来形成图案，包括下述步骤：抗蚀剂层形成步骤，在基板上形成抗蚀剂层；激光扫描步骤，对所形成的抗蚀剂层上使激光进行扫描；以及显像步骤，用显像液使激光所扫描的抗蚀剂层显像。以下，对各步骤进行详细说明。

[抗蚀剂层形成步骤]

首先，如图1(a)及图1(b)所示，准备平坦的基板10，在基板10上形成包含氧杂菁系色素的抗蚀剂层20。

抗蚀剂层20的形成通过如下操作来进行：将氧杂菁色素溶于溶剂中以调制涂布液，在基板10表面涂布所调整的涂布液以形成涂膜，之后干燥所形成的涂膜。

作为氧杂菁色素，可以使用例如日本专利特开2006-212790号公报中记载的色素。例如，作为氧杂菁色素的较佳结构的一个例子，有下述通式(1)所表示的结构。

[化1]

......通式(1)

上述通式(1)中，Za1及Za2各自独立表示形成酸性核的原子组群。Ma1、Ma2、Ma3各自独立表示取代或未取代的次甲基。ka表示0～3的整数，ka大于等于2时，存在多个的Ma1、Ma2可相同亦可不同。此外，Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所必需的数。

此外，作为氧杂菁色素的较佳结构的一个例子，有下述通式(2)所表示的结构。