[发明专利]充电构件、处理盒和电子照相设备

说明书

技术领域

本发明涉及充电构件和使用其的处理盒。

背景技术

作为用于电子照相感光构件的接触充电的充电构件，广泛使用具有支承体、设置于所述支承体上的导电性弹性层和设置于所述导电性弹性层上的绝缘性表面层的充电构件。

目前，用于此类接触充电系统的充电构件与感光构件保持接触，因此前者的表面可被残留于感光构件表面上的任意调色剂和外部添加剂等刮擦，从而调色剂以及调色剂的外部添加剂趋于附着到被刮擦的部分。已部分附着调色剂和外部添加剂的此类充电构件可能引起感光构件上的不均匀带电。

表面层在其磨耗部分还可保持低电阻，因此，当通过使用具有磨耗部分的充电构件来使感光构件静电充电时，任何放电可集中于磨耗部分，结果使感光构件的表面劣化。

对于此类问题，专利文献1公开了通过在充电构件的各端部设置有间隔物构件(spacer member)在充电构件和感光构件之间保持空隙从而在此放电的方法。专利文献2还公开了使用带电促进颗粒来使充电构件的表面始终磨耗从而实现稳定充电的方法。

专利文献3进一步公开了以40质量%以下的比例包含表氯醇-环氧乙烷共聚物的聚氨酯树脂膜具有高耐磨耗性，并且此类膜在充电辊中的使用带来充电辊耐久性(运行性能)的改善。

[引文列表]

[专利文献]

专利文献1：日本专利申请特开第H08-179591号

专利文献2：日本专利申请特开第2004-020844号

专利文献3：日本专利申请特开第H08-314233号

发明内容

发明要解决的问题

然而，根据由本发明人进行的研究，根据专利文献1的方法虽然因感光构件和充电构件彼此并不接触可防止两者磨耗，但是发现在有些情况中难以保持空隙。已发现根据专利文献2的方法在有些情况中始终磨耗充电构件从而难以使感光构件恒定均匀地充电。另外，已发现根据专利文献3的膜存在耐磨耗性进一步改善的空间。

因此，本发明的目的是提供充电构件，所述充电构件设置有即使由于充电构件与感光构件接触也不能容易地磨耗并且还具有有助于在充电构件与感光构件之间形成适当辊隙的适当弹性的表面层。

本发明另外的目的是提供能够长期形成良好图像的处理盒和电子照相设备。

用于解决问题的方案

根据本发明，提供充电构件，其包括：基体；弹性层；和表面层，其中：所述表面层包含具有Si-O-Hf键的高分子化合物；所述高分子化合物具有由下式(1)表示的结构单元和由下式(2)表示的结构单元：

式(1)

式(2)

HfO_4/2

式(1)中，R₁和R₂各自独立地表示由下式(3)至(6)表示的结构的任一种。

式(3)至(6)中，R₃至R₇、R₁₀至R₁₄、R₁₉、R₂₀、R₂₅和R₂₆各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R₈、R₉、R₁₅至R₁₈、R₂₃、R₂₄和R₂₉至R₃₂各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R₂₁、R₂₂、R₂₇和R₂₈各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或具有1至4个碳原子的烷基；n、m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数，p和r各自独立地表示4至12的整数，x和y各自独立地表示0或1；星号*表示与式(1)中的硅原子的键合位置，和双星号**表示与式(1)中的氧原子的键合位置。